二手 LAM RESEARCH Alliance A6 9600 PTX #9098070 待售

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ID: 9098070
晶圓大小: 8"
Process Module, 8" Pressure Control: VAT 65 Upper Match Enclosure Fan Turbo Pump: BOCE 1300L Endpoint Filters: 405/703nm Monochromator Wafer Configuration: SEMI Missing parts: Lower match can RF match Lifter assy ISI upper match controller Upper heaters Harness and overtemp harness Card cage.
LAM RESEARCH Alliance A6 9600 PTX是一種用於半導體器件制造的幹蝕等離子技術(DPT)設備。這是一個雙室、多過程系統,使得多次蝕刻或asher操作能夠在一個序列中執行。該裝置具有等離子體源和射頻功率控制組件,以及真空控制室、氣閘操作和運動變壓器。該室還設計有射頻等離子體發生器和冷板,用於最佳熱處理。機器的主要部件包括兩個獨立的加工室,一個蝕刻室和一個asher室。蝕刻室配有微波源、獨特的RF/DC動力等離子體源以及全自動的RF源控制器,用於精確的蝕刻調節。它還具有可靠的基板輸送工具以及互鎖的安全系統,以幫助保護樣品免受意外汙染。LAM RESEARCH ALLIANCE A6-9600PTX資產可用於進行深反應性離子蝕刻(DRIE)、等離子體增強化學氣相沈積(PECVD)、絕熱蝕刻減少蝕刻損傷等蝕刻和灰化操作。它還具有可編程溫度高達600 °C的退火能力,適合晶片的高級退火。它提供40 mTorr的最大工藝壓力,底壓為5 × 10-7 Torr,有效蝕刻速率高達130 nm/min。該型號的最大射頻功率為1,500 W,頻率範圍為10 MHz-2.45 GHz。此外,該設備還提供了具有6個可調整等離子體參數的高度精確的過程控制。這種蝕刻器/asher是高效的,為在柔性基板上產生高質量的結果提供了可重復的工藝序列。此外,系統的直觀GUI和安全聯鎖還提高了操作員的安全性,有助於防止對樣品和工藝室造成不必要的損壞。因此,ALLIANCE A6 9600PTX是半導體器件制造高效蝕刻/粉刷操作的絕佳選擇。
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