二手 LAM RESEARCH Dual frequency oxide chamber for Exelan A6 #9232416 待售

LAM RESEARCH Exelan A6雙頻率氧化物室是一種蝕刻器/灰化器，能夠進行高精度蝕刻，在半導體材料上形成圖樣和氧化物層。該設備用於半導體制造，旨在減少充電、提高特征定義、最大限度地減少等離子體損傷。Exelan A6采用雙頻電源,最多可提供10MHz。腔室以優化的過程壓力運行，創造出均勻的多頻等離子體，每5秒形成約1nm的氧化層。腔室有一個精確的工藝窗口，以確保最佳的模型性能和一致性，以及一個統一的薄膜。該室采用兩種高速質量流控制器，每一種具有耐腐蝕的不銹鋼主體和寬廣的瞬時流動範圍，以提供準確和可重現的蝕刻結果。它還設有一個被水淹沒的噴水裝置，用於冷卻和循環零件表面以提高工藝透明度。該腔室有一個集成的自動排氣系統，由內置的氣體歧管推進單元增強，使基板的清除和容器填充更加容易和快捷。阻抗和匹配網絡使機器能夠以廣泛的功率水平運行，並提供最佳的射頻功率和波形來改善離子對基板的影響。Exelan A6還配備了深度大方30mm的不銹鋼熱晶片船。晶圓船的基板持有者利用金屬網提供了卓越的散熱能力，使熱循環速度更快，溫度均勻性得到改善，從而提高了工藝效果。總體而言，Exelan A6的雙頻氧化物室是一種精密高效的機器，能夠在半導體上產生精確的圖樣和氧化物層。其令人印象深刻的技術和功能允許進行高精度蝕刻、減少充電、改進特征清晰度和最小化等離子體損壞。