二手 LAM RESEARCH EOS #293640560 待售

看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。

ID: 293640560
晶圓大小: 12"
Etcher, 12" 16-Channels split tool configuration DS Process module GS Process module Platform Front light curtain OHT PIO Sensor (16) Chamber process module ionization Door with window covers.
LAM RESEARCH EOS是一種為先進工藝技術而設計的反應性離子蝕刻器/asher設備。它具有廣泛的蝕刻應用,從MEMS深溝到光刻蝕刻。該系統具有高級次原子蝕刻(SAE)功能,能夠提供超高長寬比。它還具有高通量晶格蝕刻方法,非常適合大批量生產運行。EOS單元基於強大的納秒脈沖等離子體技術,具有集成的偏置電源、靜電卡盤和真空機。它能夠提供比傳統工藝快1000倍的蝕刻速率,同時保持高精度和準確性。它具有較低的蝕刻損壞輪廓,允許高長寬比和厚膜被蝕刻。它還具有較高的吞吐量能力,允許在一次運行中完成多個蝕刻過程。LAM RESEARCH EOS工具包括一種先進的電阻耦合等離子體(RCP)源,它提供高能離子,對不同成分的材料進行高效蝕刻。其多動力源資產具有改變離子能量的能力,以滿足更深層次蝕刻的需要,允許過程優化。EOS還配備了低溫等離子體源,使聚蝕刻和回流等反應性過程得以執行。此外,LAM RESEARCH EOS模型還配備了廣泛的過程監控功能。它的過程控制設備使用戶能夠定制蝕刻過程參數,以確保高質量的結果。該系統還具有實時蝕刻速率反饋的過程監控單元。這樣可確保以盡可能最佳的結果執行流程,並將任何流程變化降至最低。EOS 蝕刻器/asher是執行高級和可靠蝕刻過程的強大工具。它具有廣泛的工藝控制特點和較高的吞吐量能力,是滿足眾多生產需求的理想選擇。通過提供高質量和可靠的結果,可以經濟高效地制造高長寬比結構和高性能設備的大表面積。
還沒有評論