二手 LAM RESEARCH INOVA NEXT #9138133 待售

LAM RESEARCH INOVA NEXT
ID: 9138133
優質的: 2012
PVD Chambers, 2012 vintage.
LAM RESEARCH INOVA NEXT是一款最先進的蝕刻和灰化設備,專為需要高生產率、最佳工藝控制和最高質量精度結果的關鍵應用而設計。INOVA NEXT非常適合要求比以往更先進生產能力的半導體制造商。LAM RESEARCH INOVA NEXT是一個完全自動化的集成蝕刻和灰化系統,具有強大的功能,如過程自動化、精確計量功能以及對窗戶清潔和基板處理的遠見卓識。INOVA NEXT提供了更高的吞吐量,包括低周期時間、同時加載和卸載以及快速腔室過渡-比以前的型號快20%。其工藝室的創新設計降低了顆粒生成,降低了顆粒汙染的風險。其智能保護單元通過實時測量關鍵參數和調整流程,幫助保持最佳清潔度。LAM RESEARCH INOVA NEXT還配有高質量的工藝控制,為蝕刻工藝提供完整的解決方案。它具有專用的工藝預覽功能,允許模擬幹蝕刻工藝具有完整的底物特性。這樣就提高了晶圓廠產量和工藝優化,同時提高了開發靈活性和下遊產量提高。此外,它的眾多連接選項可最大程度地集成和靈活地從有限集群擴展到最大集群。這臺創新機器無縫支持GaAs、III-V、矽等技術。INOVA NEXT還支持渦輪機操作,從而解鎖對epi/金屬工具上可用的各種蝕刻工藝的訪問。對於那些正在尋找最準確、最高效的金屬蝕刻工藝的用戶來說,這個工具是一個理想的選擇。最後,LAM RESEARCH INOVA NEXT提供了業界領先的可靠性和保形沈積,實現了最佳的工藝端點和更低的周轉時間。其組件獨特而堅固的設計減少了停機時間,而其先進的計量功能確保了最高精度的結果。因此,總體而言,INOVA NEXT是需要可靠性能和最高精度結果的蝕刻和灰化應用程序的理想選擇。憑借其先進的自動化和控制功能、高質量的過程控制和集成以及3D保形沈積功能,它是許多不同類型半導體應用的理想選擇。
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