二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Speed #293615958 待售

LAM RESEARCH / NOVELLUS Speed
ID: 293615958
晶圓大小: 12"
優質的: 2007
CVD System, 12" 2007 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Speed是一種用於半導體晶圓制造加工的蝕刻和灰化設備。NOVELLUS Speed平臺為蝕刻和灰燼應用程序提供了先進的工藝能力和靈活性。它結合了LAM先進的等離子蝕刻系統和NOVELLUS CoreAsh Patterning技術。該平臺專為最新的CMOS和半導體產品技術而設計,包括3D NAND、片上單元(Soc)、MEMS、RF-SOI。LAM RESEARCH Speed平臺提供了市場上最高的蝕刻和灰分吞吐量,使客戶能夠最大限度地提高生產效率並最大限度地減少停機時間。憑借其先進的技術,它被設計成最大限度地減少顆粒汙染,確保嚴密的薄膜厚度控制,並提供極低的顆粒濃度。該機器提供業界最佳的可擴展性和可重復性,同時在所有半導體過程中提供最大的過程靈活性。速度具有廣泛的適用性,包括等離子體蝕刻、幹蝕刻、圖樣、光刻、平面化和離子銑削。等離子體蝕刻室的設計提供了業界最高的均勻性,能夠微調蝕刻過程以獲得最佳效果。射頻電源可用於蝕刻和灰分處理,提供多種工藝選項。灰室設計用於在多個晶片上提供一致的灰分速率,使電氣特性能夠在廣泛的應用中得到控制。該工具具有良好的工藝控制能力,能夠對薄膜厚度和顆粒濃度進行嚴格控制。資產可以以「打開」或「閉環」模式運行,每種模式都有其自身的優勢。Open Loop模式允許最大的靈活性,而Closed Loop模式提供了最高的性能和產量。此外,LAM RESEARCH/NOVELLUS Speed結合了模型級和過程級技術,以實時優化過程參數。這樣可以提高吞吐量和產量,減少周期之間的等待時間。NOVELLUS Speed平臺為最先進的半導體處理提供了全面的解決方案。它提供了最高的蝕刻和灰分吞吐量,緊密的薄膜厚度控制,以及提供業界最高產量的最佳可擴展性。LAM RESEARCH Speed平臺擁有先進的控制系統和強大的流程平臺,是尋求最大程度提高流程靈活性和吞吐量的客戶的理想選擇。
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