二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector Express #293800039 待售
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單擊可縮放
ID: 293800039
晶圓大小: 12"
優質的: 2010
System, 12"
Primary process module: SION
Secondary process module: PEOX
RPC Generator: Astron EX
RF Configuration: SIRF
Interconnect cable length: 100 ft
Heated top plate
Nickel-plated chamber
Top plate tubing size, 1/4"
Chemraz chamber gate valve
Apex HF Generator: 3 kW
PDX 2500 LF Generator
Chemraz O-Rings
Process manometer
(4) Viewports
Servo spindle
Pedestal, 12"
Minimum Contact Area (MCA): Pin and ball
Carrier ring
Standard shower head
Rapid pin kit
Gas box options:
Gas box interlock: H2 on channel 3
13-Channels
Non-standard system features:
NSR504691
NSR505199
UI Options: Ballroom
UI Location: Left
4-Color light tower
Front signal tower mount: Buzzer arm mount
Facial color: Sky white
BROOKS AUTOMATION ATM Robot
Friction end effector
(2) FOUPs
BROOKS Load port type
BROOKS RFID Reader
Mini environment lamp color: Yellow
No ionizer kit
TAKEX Light curtain option
EMO
FFU
KASHIYAMA NV60 Load lock pump
PC With cart
Cable length: 50 feet
Operating system: Windows 2000
2010 vintage.
LAMLAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Express是一款高級高性能蝕刻器/asher，用於各種工業應用。該設備旨在蝕刻和/或粉刷各種半導體材料，包括矽和摻雜的二氧化矽玻璃。它能夠蝕刻寬度不超過10微米、深度不超過200微米的特征。NOVELLUS Vector Express系統包括主處理單元、氣體處理模塊和遠程控制器。主處理單元由質量流控制器、電源、射頻發電機、負載鎖、退火站組成。氣體處理模塊將過程氣體供應到腔室,包括蝕刻劑和保護劑（如果需要）。負載鎖最多可容納兩個晶片，並允許快速加載和卸載設備。LAM RESEARCH Vector Express設有不同的蝕刻工藝，包括各向異性濕蝕刻，用於隔離玻璃中的矽或微管。其多步蝕刻（MSE）工藝允許創建具有所需形狀的深溝,而不會導致缺陷或斷裂。它還提供了Bosch設備蝕刻工藝，這是一種基於光刻的蝕刻工藝，用於創建與矽緊密接觸所需的形狀。Vector Express還提供退火。這一過程使得晶片不會開裂，減少不需要的缺陷，提高產量。根據材料的不同，可以應用低壓快速熱退火、低壓射頻退火或低張力射頻退火。這臺機器還提供了使用O2等離子體的可能性，以進行額外的除塵和對蝕刻特征的無氧化物清洗。最後,LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Express工具是一種高性能工具,能夠為各種工業應用提供高產率。它為不同材料提供了廣泛的蝕刻工藝，包括不同材料的絕緣和協同集成。它還提供先進的退火工藝和氧氣等離子體清洗，以優化產量和減少缺陷。
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