二手 LAM RESEARCH Rainbow 4400B #9169589 待售

ID: 9169589
晶圓大小: 8"
Plasma etcher, 8".
LAM RESEARCH Rainbow 4400B是一款設計用於後端半導體制造業務的高性能蝕刻/asher設備。它是一個單室系統,將感應耦合等離子體(ICP)蝕刻和爐基濕化學灰化能力結合在一個模塊中。LAM RESEARCH RAINBOW 4400 B專為生產環境而設計,具有高通量、自動化的體系結構,可提供最佳的可靠性和統一性。它被設計為高效,可在各種蝕刻和灰化應用程序中提供卓越的性能。Rainbow 4400B采用可靠可靠的配置構建,利用業界公認的組件和創新的體系結構。該裝置的加工室是為高重復性和均勻性而設計的,能夠支撐範圍廣泛的晶圓尺寸,從2英寸到8英寸及以上。腔室能夠在幾秒鐘內在單個晶片上沈積均勻的ICP蝕刻和濕化學灰化層。此外,該腔室配置有偏置射頻(RF)偏置發生器,可實現精確控制和高通量處理。RAINBOW 4400 B還配備了一系列先進的控制能力。可編程功能允許用戶輕松定制和優化流程配方。自動化的過程控制允許機器在一批晶片上保持均勻性,而無需手動幹預。開放式體系結構軟件可實現與現有和新晶圓設計的完全兼容性。該工具還包括功能強大的用戶界面和直觀的圖形用戶界面(GUI),以便於調試、配置和過程監控。LAM RESEARCH Rainbow 4400B還具有較低的環境影響,具有廣泛的功能,旨在最大限度地減少危險排放和減少廢物。該資產采用先進的熱控模型設計,確保工藝溫度保持均勻穩定。該設備還采用閉環太赫茲脈沖蝕刻技術提高產量,能夠產生均勻的蝕刻和退火結果。總體而言,LAM RESEARCH RAINBOW 4400 B是一個先進的蝕刻器/asher系統,它將先進、可靠和高效的設計與低環境影響相結合。其統一的工藝室、自動化的工藝控制和CLTPE技術使其成為後端半導體制造操作的理想選擇。
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