二手 LAM RESEARCH Rainbow 4420 #9151548 待售
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ID: 9151548
Poly etcher, 8"
Main body
RF Unit
Power box
Clamp
OEM-6A RF Generator
CMH-11SO2 Process manometer
CMH-11SO2 Reference manometer
CMLA-21 He Pressure manometer
UPC-1360 He UPC
839-013522-001 Pressure control valve
AC-2 Controller
MFC:
Channel / Gases / Scale / Connection size
1 / HE / 300 / 1/4" VAC Male
2 / AR / 300 / 1/4" VAC Male
3 / O2 / 2500 / 1/4" VAC Male
4 / C2F6 / 350 / 1/4" VAC Male
5 / SF6 / 250 / 1/4" VAC Male
6 / HBR / 200 / 1/4" VAC Male
7 / CL2 / 300 / 1/4" VAC Male
8 / NF3 / 500 / 1/4" VAC Male
PCW:
Qty / Unit / Connection size
(4) / Main body / 3/8" SWG Male
(2) / RF Unit / 3/8" SWG Male
Vacuum:
Qty / Unit / Connection size
(1) / Main body (Chamber) / ISO 80
(1) / Main body (L/L) / NW-60
CDA:
Qty / Unit / Connection size
(1) / Main body / QC6 Connector
Power supply:
Power box: Φ3, 208 V, 5-Wire, 100 A, 50/60 Hz
Main body: Φ3, 208 V, 5-Wire, 100 A, 50/60 Hz
RF Unit: Φ3, 208 V, 5-Wire, 100 A, 50/60 Hz.
LAM RESEARCH Rainbow 4420是一種最先進的蝕刻/asher設備,旨在提供半導體器件制造中的精確性能。高性能的基於水平的系統提供了快速、準確的蝕刻速率,並為要求最苛刻的蝕刻和灰化應用提供了完美的平臺。Rainbow 4420可以處理一系列晶圓尺寸，從200毫米到8英寸的晶圓，使其適合所有類型的晶圓工藝。它是使用閉環超高真空（UHV）工藝濺射室建造的，提供了高度可靠和可重復的蝕刻/灰分循環。LAM RESEARCH Rainbow 4420最多可同時處理三個氣體輸入；提供蝕刻或灰分工藝的選擇,以實現最大的靈活性。Rainbow 4420擁有高度可靠的射頻（RF）驅動過程。這樣可以確保快速、準確的蝕刻速率,從而提高性能。該裝置配備了最先進的端點檢測能力，能夠從頭到尾控制蝕刻過程。LAM RESEARCH Rainbow 4420提供了廣泛的蝕刻和灰分處理氣體，如氧氣、四氟化碳和的氙氣。LAM RESEARCH高級過程控制選項（如Profile和Pressure Control選項）提供了出色的過程重復性。輪廓控制功能是一種基於配方的工藝,允許控制沈積厚度,而壓力控制選項則利用射頻能量來調節顆粒的能量,確保晶片之間的極佳均勻性。Rainbow 4420的設計考慮了安全性,包括用戶友好的觸摸屏LCD界面和安全功能,如安全聯鎖和自動氣體關閉。它還包括一個用於自動化流程日誌記錄的錯誤記錄機，確保最大限度的流程控制和消除潛在的流程缺陷。LAM RESEARCH Rainbow 4420是滿足復雜半導體蝕刻/灰化需求的完美工具。該資產具有快速、準確和可重復的結果,非常適合確保一致的產品產量和盡可能高的質量。
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