二手 LAM RESEARCH Rainbow 4520 #9221215 待售

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ID: 9221215
晶圓大小: 8"
Oxide etcher, 8" Includes: PDW-2200 RF Generator CMH-11S02 Process manometer Reference manometer CMLA-21 Heat pressure manometer UPC-1300 He UPC 839-013901-001 Pressure control valve AC-2S06 AC2 Controller MFC: Channel / Gas / Scale 1 / AR / 1000 2 / CF4 / 400 3 / CFHF3 / 100 4 / HE / 1000 5 / O2 / 20 6 / N2 / 100.
LAM RESEARCH Rainbow 4520是在半導體工業中應用的一種理想的先進蝕刻器和asher設備。它提供了在尺寸達到300毫米的晶片中蝕刻和粉刷矽、金屬和有機材料層的能力。Rainbow 4520利用一個復雜的線性電感耦合等離子體(LICP)源來創建高度可重復、均勻的過程結果。可以對LICP源進行調整,以生成用於蝕刻或灰化過程的所需等離子體參數,範圍從0-500 W(用於蝕刻)和0-200 W(用於灰化)。采用先進的晶片處理和運輸技術,以確保晶片的準確加載,系統配備了自動等離子體板坯膨脹控制(APS)機制,以防止通常與腔室清潔操作相關的等離子體加載問題。LAM RESEARCH Rainbow 4520室最大工藝容積為360升,並用射頻發生器封閉,以減少室壁上流氓物種的沈積,進一步有助於其可靠性。此外,還提供了幾種室內預清潔和就地清潔選項,以確保在處理結果中可重復性達到最高水平。機器還利用一系列壓力和流量控制器來維持室內精確控制的環境。真空水平可以設置為最小1 mTorr,從而確保晶圓工藝的最低基本壓力。Rainbow 4520能夠按照工藝配方的定義,準確地使用一系列工藝氣體,如氙氣、SF6、氧氣、N2、O2和NF3。LAM RESEARCH Rainbow 4520還配備了數字和模擬顯示設備以及用於開發高級配方的軟件,使用戶能夠獲得可重復、高質量的蝕刻和灰化效果。該單元還能夠在配方周期內進行流程監控和日誌記錄,並提供高級功能,如超壓保護、流程窗口映射以及用於改進清潔劑可重復性的雙壓板設計,從而進一步保證了高流程產量。該機器經過設計和測試,具有超長時間的可重復性和準確性,可以通過遠程控制臺進行控制,從而無需用戶靠近。彩虹4520是先進半導體器件生產的理想解決方案。
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