二手 LAM RESEARCH Rainbow 4520i #9180717 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
ID: 9180717
晶圓大小: 6"
優質的: 2004
Dry etcher, 6"
Clamped chuck
Verity enhanced endpoint detection
Hines indexers
Matching network: LoFat
ISO Matcher: Yes
Top and bottom RF cables: Standard
Chamber process kit parts:
Pick and place wafer transport with non-wafer contact optical alignment
Inductive RF auto tuning: Fast accurate RF tuning for precise control
Active temperature control of upper and lower electrodes
Vacuum load-locked low pressure oxide system
Parallel plate reactor: Proven etch technology
Variable gap spacing: Wide process flexibility
Integrated isotropic-anisotropic etching
(2) Active chambers
Flat notch orientation
Upper and lower baffles
Electrode clamp ring
Attachment ring
Filler ring lower clamp
Focus ring edge lower
Vespel confinement ring
Bottom wafer clamp
Bell jar
Single wafer
4520i Isotropic etch chamber:
Integrated into entrance load-lock
1250 Watt solid state
Water cooled remote isotropic chamber RF generator
RF Match housing resides at the left side of the isotropic module
(3) MFCs For isotropic chamber
Pressure controller for helium backside wafer cooling
Hinged upper housing of isotropic chamber
Air blower assembly
OEM Specifications / Typical results:
Dry pumps / Chiller not included
Selectivity BPSG/TEOS to poly: >15:1
Thermal oxide etch rate: ≥ 4500A/min
BPSG Etch rate: >7500 A/min
TEOS Etch rate: >5000 A/min
Particles: 0.3μm size
Uniformity: +/- 10% 3
4520 Anisotropic etch chamber:
Single wafer etch: Individual wafer etch
Wafer temperature control:
Reduced loading effects
Profile control with extended over etch
LAM RF Generator rack:
Main RF generator
ISO AE RFG 1250 RF Generator
2004 vintage.
LAM RESEARCH Rainbow 4520i濕蝕刻器/asher是一款用於鋁、銅、矽等多種材料的最先進的等離子體蝕刻設備。該系統具有高重復性,專為高精度半導體應用而設計。使用標準單元,Rainbow 4520i可在整個蝕刻周期中提供統一、可重復的結果。該裝置采用先進的工藝控制機,提供晶圓溫度和壓力的實時控制,同時優化蝕刻循環時間,節約蝕刻溶液。該工具配備了變頻電源和先進的電子-回旋共振源(ECR),以獲得橫跨晶圓表面的均勻各向同性蝕刻。氣體和/或蒸氣根據特定類型的基材和沈積材料的需要進行混合和調節。使用數字控制器可以精確控制功率水平、溫度和蝕刻持續時間。資產還支持多種冷卻策略,提供晶圓表面的均勻熱控制。它包括一個先進的雜質控制模型,有助於保持高質量的蝕刻表面。采用軟刷洗滌和微助洗滌技術相結合的獨特洗滌系統為雜質控制設備提供了便利。該單元還包括一系列工具和配件,以滿足特定的材料蝕刻要求。它配備了一系列提升銷和柔性噴嘴,旨在蝕刻不同的圖案和尺寸。此外,機器還支持多種氣體和/或蒸氣,產生從極深蝕刻到淺蝕刻的各種蝕刻表面。總體而言,LAM RESEARCH Rainbow 4520i蝕刻工具是一種高效的機械,具有各種功能,提供精確且可重復的蝕刻結果,是首屈一指的。它的高級特性使它能夠蝕刻多種類型的材料,其過程控制資產有助於保持蝕刻過程的統一和一致。柔性噴嘴和多種氣體提供了從極深蝕刻到淺蝕刻的一系列蝕刻樣式。蝕刻機的尖端技術使其成為市場上最好的之一。
還沒有評論