二手 LAM RESEARCH SEZ 223 #293658158 待售

LAM RESEARCH SEZ 223是一款等離子體蝕刻器和asher。這臺機器設計用於在具有反應性離子蝕刻（RIE）和金屬有機化學氣相沈積（MOCVD）的受控大氣中精確蝕刻和清潔半導體晶片。SEZ 223采用高密度射頻等離子體設備，為高效蝕刻和清理作業提供了理想的介質。LAM RESEARCH SEZ 223配備了一個ICP（感應耦合等離子體）源進行處理，由四個可單獨調節的射頻通道組成，以加強等離子體控制。這樣可以通過增強離子能量分布和提高晶圓表面的均勻性來實現精確的蝕刻結果。ICP源能夠產生高達8,000瓦的等離子體，底壓為10 mTorr，可以維持在1 mTorr的目標蝕刻壓力和10 kHz的目標射頻頻率內。SEZ 223設有氣體輸送系統，能夠處理三條氣線進行精確的壓力控制，最多5個氣源，以及精確的氣比，以達到所期望的蝕刻結果。該單元可確保準確的沈積和蝕刻速率,從而能夠精確控制蝕刻過程。LAM RESEARCH SEZ 223的精密晶圓處理機設計與FOUP平臺整合。它可實現晶片高速的精確加載和卸載、定向和旋轉,同時提供與PECVD、RIE和CMP工藝模塊的完整工藝集成。SEZ 223的腔室被設計成產生最低的粒子和腔室載荷速率，允許在最終加工的晶片中出現低缺陷率。該設計還允許高效冷卻和真空積聚以提高吞吐量。總體而言,LAM RESEARCH SEZ 223針對蝕刻和灰化進行了高度優化。其強大的ICP源、精確的氣體輸送工具、精密的晶圓處理資產以及低汙染室，使其成為半導體晶圓高效加工的理想之選。