二手 LAM RESEARCH TCP 9600 SE #9172338 待售

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ID: 9172338
優質的: 1994
Etcher With rainbow endpoint detection Water cooled platen Standard recipe 600/601 for Al etching: Etch rate: 800 nm/min Photoresist etch rate: 400 nm/min Standard recipe 640 for Al2O3 etching: Etch rate: 100-120 nm/min Substrate size: 150 mm Diameter Allowed materials: Al, Al2O3, TiO2, Poly Si, Nb Forbidden materials: Non IC-compatible materials Gases: Cl2, BCl3, HBr, SF6, CF4, Ar, N2, O2, He Pressure: 0-100 mTorr Process temperature: 55°C Electrode power: Top: 0-1250 W Lower: 0-1200 W 1994 vintage.
LAM RESEARCH TCP 9600 SE是一種用於半導體制造及相關行業的高度可靠、高生產率的蝕刻器或粉碎器。它專為化學氣相沈積(CVD)工藝而設計,涉及薄膜或層在基板或半導體晶圓表面的沈積。LAM RESEARCH TCP 9600SE提供了一系列功能,旨在提高沈積膜的整體蝕刻速率、均勻性和化學成分。TCP 9600 SE的高性能設計由DirectDrive直線電動機驅動,以低漂移提高蝕刻均勻性,也明顯比傳統的拉絲電動機設計安靜。它還具有先進的熱控制設備和各種各樣的集成和可編程選項,包括數字模式識別(DPR)、溫度掃描、能量掃描和功率測量。該系統的先進靜電卡盤(ESC)確保了良好的基板附著力和均勻加熱整個過程。蝕刻器可以調整到廣泛的基材尺寸,從200毫米和300毫米到8英寸、10英寸和12英寸的晶圓。它具有集成晶圓處理程序、可調加熱塊和氣流系統。該裝置的電動機驅動亞均勻腔室旨在減少顆粒汙染並保持最佳均勻蝕刻速率。TCP 9600SE是一種可靠且用戶友好的機器。其直觀的用戶界面簡化了CVD流程的操作,並有助於減少停機時間。此外,該工具的遠程監視、數據記錄和診斷功能使用戶能夠監視其流程結果,並在必要時從遠程位置進行調整。LAM RESEARCH TCP 9600 SE因其高性能設計、集成診斷和數據記錄功能以及用戶友好性,非常適合要求苛刻的半導體蝕刻和沈積過程。其強大的設計確保了可靠的操作和最大的整體生產力。
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