二手 LAM RESEARCH TCP 9600 SE #9283047 待售
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ID: 9283047
Aluminum metal etcher
With endpoint detector
TiW layers
Linewidth: 0.35 µm
Transformer coupled plasma
Coil controller
Platen power
Gases: Cl2, BCl3, HBr, SF6, CF4, Ar, N2, O2, He
Pressure: 0-100 mTorr
Top electrode power: 0-1250 W
Lower electrode power: 0.1200 W
Temperature: 55°C
Decoupled Source Quartz (DSQ)
Rate: 400 nm/min
Standard recipe 600/601 for Al etcher rate: 800 nm/min
Standard recipe 640 for Al2O3 etcher rate: 100-120 nm/min
Substrate size: 150 mm Diameter
Materials: Al, Al2O3, TiO2, poly Si, Nb
Non IC compatible materials.
LAM RESEARCH TCP 9600 SE是一款Etcher/Asher，旨在提供生產半導體器件所需的化學機械平面化（CMP）/蝕刻服務。LAM RESEARCH TCP 9600SE采用先進的兩級etasten工藝設計,能夠處理直徑不超過200 mm的單個晶片。TCP 9600 SE提供了同時處理多達六個晶片的能力,標稱處理速度高達每小時1500個晶片。其蝕刻工藝采用化學機械拋光技術，使其能夠為先進的設備應用（如MEMS、復合半導體和磁性設備）提供始終如一的高質量表面。TCP 9600SE的吞吐量和靈活性使其成為客戶的理想解決方案,他們需要一個經濟高效的解決方案來在高產量的情況下蝕刻晶片。LAM RESEARCH TCP 9600 SE中的蝕刻工藝包括兩階段蝕刻和沖洗工藝。第一階段是使用漿料和/或水射流從晶圓表面去除材料。第二階段是拋光工藝，能夠精確控制晶圓的地形。此過程中使用的單個蝕刻工藝與應用程序要求相匹配,提供了優化的配置文件並提高了CMP產量。該工藝還提供了進行選擇性蝕刻的能力，這使得具有復雜幾何形狀的晶片能夠被蝕刻到精確的公差。LAM RESEARCH TCP 9600SE與各種標準化學成分和化學物質兼容，設計符合行業標準的安全協議和清潔要求。該機還配備了集成的可編程邏輯控制器（PLC），用於計算機控制的操作編程和功能監控。TCP 9600 SE是一種通用的Etcher/Asher解決方案,可根據各種工藝要求量身定制,可處理75-200 mm尺寸的晶圓。該機器的設計能夠提供出色的晶片表面效果，同時又緊湊且經濟實惠。在鑄造廠、晶圓廠和研發應用中，它是一種適合先進蝕刻和CMP工藝步驟的解決方案。
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