二手 LAM RESEARCH TCP 9600 #9098467 待售

ID: 9098467
晶圓大小: 6-8"
優質的: 2010
Etcher, 6-8" Wafer type: flat (single type chamber) Loading capacity on 1 process run: (7) sheets X 2” wafer available (GaN process) Creates plasma on the order of 10e11 - 10e12 ions/cm3 Operating in pressure regime of 1-20 mtorr Etch rates of 3,000 to 10,000 A/min 2010 vintage.
LAM RESEARCH TCP 9600是一款高科技幹式蝕刻器/asher設備,設計用於蝕刻、濺射和薄膜沈積等半導體加工應用。該系統使用兩個離子源進行蝕刻和沈積薄膜,一個用於濺射,一個加熱卡盤用於樣品制備。蝕刻器/asher具有一個底壓為5.0 x 10-7 torr的真空室,並在整個單元內提供均勻的低壓。它是一臺大型機器,有八英尺的腔室深度,可容納多種晶圓配置,直徑可達六英寸晶圓。該工具采用嵌入式高性能過程控制(HPPC)資產設計。該模型使腔室組件的控制和若幹附加工藝參數的控制自動化。它允許用戶對腔室過程和等離子體條件進行高級工藝開發、編程和控制。LAM RESEARCH TCP 9600的先進能量粒子控制(EPC)為蝕刻和濺射源提供獨立的功率控制。這提供了每個源的獨立優化,同時也提供了改進的過程均勻性和高密度等離子體。該設備還設計有用於蝕刻和濺射源的精確對準系統(PAS)。這樣就可以準確對齊源,以實現盡可能高的吞吐量。利用PAS,該腔室可以在恒定和淺層蝕刻應用中保持最大吞吐量。此外,TCP-9600還包括整個會議廳的實時監測和報告單元,提供實時反饋和利用分析,以便進行流程優化。機器還有一個工程師的包,其中包括全系列的工藝配方、模板和模型。TCP 9600的設計提供了極大的過程靈活性和統一性。其先進的能量粒子控制和精確對準系統提供高質量的蝕刻和濺射過程,而其實時監測和報告系統則為用戶提供不斷的反饋。該工具為半導體處理應用提供了可靠的解決方案,非常適合需要最大程度的過程靈活性和均勻性的用戶。
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