二手 LAM RESEARCH Torus 200 #9235815 待售

LAM RESEARCH Torus 200是一種精密的蝕刻/灰分設備，設計用於在半導體制造過程中對薄膜層進行精確的蝕刻/灰分處理。Torus 200利用真空室與強大的電子回旋共振（ECR）等離子體源系統耦合，提供優化的蝕刻/灰分過程，包括選擇性（各向異性）蝕刻，高通量。等離子體源功率為200瓦，能夠在0.1-50 mTorr範圍內的Argon （Ar）和Fluorine （F）氣體環境中工作。它配備了電機驅動的焦環驅動程序、頻率可編程電源控制器、安全互鎖開關以及帶有石英窗的源循環托盤。LAM RESEARCH Torus 200主蝕刻室能夠在高達150°C的溫度下處理多達兩個4英寸的晶片，而負載鎖可以在並行過程中處理多達四個4英寸的晶片。該單元提供同時蝕刻/灰分功能和雙腔室化學特性--允許在同一晶片上執行多個蝕刻/灰分步驟以進行設備優化。該高級平臺采用靈活的配方參數和精確的過程控制，以及具有配方管理功能的高級人機接口（HMI）。這使用戶能夠根據特定的蝕刻/灰燼要求快速輕松地配置流程參數。Torus 200還具有運輸和加工室的全隔離、具有堅固烘烤功能的真空加工室以及遠程服務終端,以確保工業水平的生產穩定性和提高用戶安全性。該機具有獨特的空氣軸承和磁懸浮級混合設計，以及LAM的駕駛員反饋控制TOYOMOTION控制軟件，因此具有很高的可靠性。LAM RESEARCH Torus 200蝕刻/灰分工具為半導體制造需求提供了一個高效、經濟高效且註重能源的解決方案。適用於ULSI應用的蝕刻內存設備、高壓層和特殊層。Torus 200在業界表現極佳，以優異的選擇性和均勻性提供優越的蝕刻/灰分品質。它是當今動態半導體制造業的完美工具。