二手 LAM RESEARCH Torus 300K #9244819 待售

LAM RESEARCH Torus 300K是一種晶圓加工的尖端蝕刻/asher設備。該系統采用先進的脈沖蝕刻和灰化技術進行精密晶圓蝕刻。它采用脈沖蝕刻沈積（PED）技術，能夠實現高通量的精密蝕刻和灰化。該裝置能夠高效、準確地在晶片表面上創建高長寬比結構，在制造晶片的同時保留晶片上的蜂窩圖樣和其他特征。該機還包括一個大氣壓力化學氣相沈積（APCVD）工具，具有廣泛的沈積材料。APCVD能夠以精心控制的厚度沈積各種介電材料。而且氮化鈦（TiN）是最常用的沈積材料之一，它可以優化晶圓表面和其上建立的電極之間的肖特基接觸。此外，資產的主動氣體控制功能有助於通過盡量減少廢物來盡量減少對環境的影響；它旨在最大限度地減少氣體消耗、化學廢物和模型本身的足跡。圓環300K中的晶圓腔體積較大，輸入和輸出分布均勻。輸入包括射頻輸入、氦氣和質量流控制器，而輸出包括沈積機器人和液體清潔器。一個光伏電池，一個標準部分的設備，包括測量晶圓溫度。該系統還包括一個模式生成器，它根據應用程序的要求提供精確和統一的模式。在設計方面，LAM RESEARCH Torus 300K包含創新的雙室模塊化設計。其主要特點包括快速凈化腔室、短冷卻、快速斜坡和精確射頻控制。雙腔室設計和快速腔室凈化有助於降低半導體晶片在加工過程中溫度梯度的風險。此外，射頻功率控制對蝕刻工藝進行了微調控制，以實現晶圓中所需的形狀。總體而言,Torus 300 K是一個高效的蝕刻器/asher單元,旨在滿足最高的行業標準。其精密蝕刻和灰化技術，加上可靠的射頻控制，提供了與所需應用一致的詳細模式。此外，其創新的雙室模塊設計，允許快速斜坡，安全室清洗，和短冷卻周期，從而確保統一的結果。高通量和環境友好性是機器的另外兩大優點，因此非常適合各種半導體制造工藝。