二手 LAM RESEARCH Torus 300S/RF #9395313 待售

ID: 9395313
晶圓大小: 12"
優質的: 2010
Plasma etchers, 12" SMIF/FOUP Load module: CYMECHS DURAPORT Load port AITEC WV300 Loader arm PVSK ADS 1202H Dry pump Transfer module: CYMECHS AI-2500 Transfer arm (Robot) PVSK ADS 1202H Dry pump Process module: LAM RESEARCH Torus 300S Chamber PVSK ADS 1202H Pump ADVANCED ENERGY RFG 1251 RF Generator LAM RESEARCH Torus 300S Gas box LAM RESEARCH Torus 300S PC HDD has been removed Operating system: Windows 2000 2010 vintage.
LAM RESEARCH Torus 300S/RF是一種為提供高通量性能和對工藝參數的精確控制而設計的蝕刻/asher設備。它采用低成本、靈活的設計,使用戶能夠輕松調整工藝流速和層輪廓,以達到所需的表面質量。Torus 300S/ RF通過其365mm x 365mm x 25mm寬的加工室提供高等離子體蝕刻均勻性,允許更高的長寬比和更厚的蝕刻膜。其先進的冷卻系統可實現更高效的操作,從而實現更好的蝕刻深度和無缺陷的表面。設備由先進的射頻發生器供電,提供獨立的離子和自由基,可以精確優化每個蝕刻步驟。該裝置支持所有介電、有機和金屬材料的等離子體蝕刻,並具有額外的蝕刻幾層材料的能力。Torus 300S/RF還配備了一個集成的、完全兼容的微量濕度系統,有助於確保極好的可重復性和可靠的、可重現的等離子體蝕刻結果。Torus 300S/RF可用於產生多種蝕刻形狀,包括VPS溝槽、凹環、鍍金通氣以及空腔或切口。該設備配備了自動加載/卸載系統和觸摸屏界面,用於用戶友好的參數調整。它還能夠維持高達585°C的高溫,用於優質晶圓加工。此外,該設備的加電速度更快,只需40分鐘即可完成蝕刻。LAM RESEARCH Torus 300S/RF是時間敏感工藝的理想蝕刻解決方案。其模塊化設計和一致的均勻蝕刻可實現可重復、可靠的工藝結果,並以低成本為用戶提供高端蝕刻解決方案。盡管體積很小,但它能夠在最短的時間內處理最厚的薄膜。
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