二手 MARCH PX-1000 #293775356 待售

ID: 293775356
Plasma cleaner.
MARCH PX-1000是一種最先進的等離子體蝕刻器/asher設備,設計用於在先進的研發以及大批量制造環境中對半導體晶片和其他基板進行精確、均勻的加工。這種通用工具提供了廣泛的工藝功能,包括蝕刻、灰化和表面處理,使其成為半導體器件制造和MEMS(微機電系統)制造的重要資產。MARCH PX 1000具有堅固可靠的高品位不銹鋼真空室,保證了出色的工藝控制和蝕刻和灰化操作的穩定性。該系統配備了先進的氣體輸送和控制系統,允許對氧氣、氙氣、氟氣等工藝氣體以及其他反應性物質進行精確操縱,以達到所需的蝕刻速率和選擇性。氣流可以精確調節,在基板表面形成均勻的等離子體密度和分布,產生一致且可重復的處理結果。PX-1000的關鍵亮點之一是其先進的射頻等離子體生成技術,它提高了工藝效率和靈活性。該機組利用一臺高功率射頻發生器,在工藝室內制造出高度電離的等離子體,使各種材料能夠快速高效蝕刻,包括矽、二氧化矽、氮化物和其他介電層。射頻等離子體源還能夠對離子能量和通量進行精確控制,從而實現卓越的蝕刻輪廓控制和側壁平滑度,這對於先進的設備陣列和納米級特征制造至關重要。PX 1000提供了一系列蝕刻和灰化模式,包括各向同性和各向異性蝕刻、descum/ashing和表面修改,允許用戶量身定制工藝配方以滿足特定的應用要求。該機支持RIE(反應性離子蝕刻)和ICP(感應耦合等離子體)蝕刻模式,為不同材料堆棧和器件結構的配方開發和優化提供了靈活性。此外,該工具還具有用戶友好的界面和直觀的軟件控制功能,可方便地進行配方設置、監控和數據記錄,以實現流程優化和可追蹤性。在基板處理方面,MARCH PX-1000的設計可以容納各種晶圓尺寸,從小塊到300 mm晶圓不等,使其適合研發和大批量生產環境。該資產配備了可靠的晶片卡盤和處理機構,以確保在加工過程中精確的基板定位和對準。此外,腔室設計還結合了先進的氣體分配和排氣系統,以盡量減少顆粒產生和交叉汙染,保持高工藝清潔度和產量。總體而言,MARCH PX 1000等離子體蝕刻器/asher模型結合了先進的工藝技術、可靠的硬件設計和用戶友好的操作,在半導體器件制造和材料加工應用中提供卓越的性能。PX-1000具有多種多樣的工藝能力、高工藝可重復性和出色的工藝控制,是滿足半導體行業、MEMS制造和研究機構要求對下一代設備開發進行精確等離子體處理的要求的理想解決方案。
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