二手 MATRIX System One 103 #9201876 待售
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單擊可縮放
ID: 9201876
晶圓大小: 6"
Stripper, 6"
Included ranging:
50mm up to 150mm
The system optimizes vital device parameters:
Enhanced gate oxide integrity
Reduced threshold and capacitance voltage shifts
Reduced contact resistance / Oxidation
Photoresist Stripping:
High dose implant
Post-polysilicon etch
Post-metal etch
Post-oxide etch
Controlled resist removal:
Post-develop descum (pre-etch)
Dry / wet process capability
Uniformity capability (<5% 1σ)
GaAs, InP wafer strip and descum
Thin film head resist cleaning
Opto-electronic devices cleaning
MEMS
Single wafer multi-Step Processing:
Precisely controlled & repeatable stripping of each wafer
(3) programmable steps + overstrip
Capable of long process times for exceptional control
High throughput:
35 WPH on 150mm substrate
Aluminum Wafer Chuck:
Fast
Precise
Uniform removal of resist
Low Particles:
0.1 particles (>0.3μm) added per cm2
Proven System Performance:
700 System ones in use worldwide
95% uptime
Proven Reactor Design:
Closed-loop temperature control
Stable range for strip:
150°C – 250ºC (+/-5°C)
For descum:
70°C – 150ºC .
MATRIX Equipment One 103是一個先進的蝕刻和灰化系統，旨在為半導體器件的生產提供高效、精確的質量控制過程。103號機組是一臺等離子體和濕蝕刻兼具的平面機，能夠處理各類基材，包括矽片、金屬、玻璃以及許多非金屬和有機材料。MATRIX Tool One 103最大腔室尺寸為836mm x 788mm，設計提供高達20微米/秒的穩定蝕刻速率，具有極好的重復性和均勻性。Asset One 103具有多種特性和功能,使其成為復雜蝕刻和灰化應用程序的理想選擇。該模型高度自動化,具有直觀的觸摸屏用戶界面,使用戶能夠輕松輸入參數並設置設備以實現最高效的操作。該系統還有各種各樣的控制組件，包括基於平板電腦的控制器、可編程邏輯控制器（PLC）、氣體歧管以及上下遊過程監控單元。所有這些組件協同工作,使自定義工藝參數以獲得所需的蝕刻和灰化結果成為可能。MATRIX Machine One 103還支持廣泛的工藝化學，包括氣態和液態化學。該工具提供了控制和監測反應參數如壓力、溫度、氣流、電壓和基板命令的有效手段。資產還包括自動晶圓識別和基板加載子模型，以提高制造吞吐量。設備1 103包含了一系列先進的安全功能，包括氮氣凈化能力以盡量減少有害氣體，以及一個在線過濾系統以防止塵埃顆粒進入腔室。它還有一個可編程環境輔助蝕刻（PEAE）單元，旨在達到最佳蝕刻和灰化條件，不需要手動調整。該單元還有一臺先進的監控機器，提供有關工藝參數的實時信息，如溫度、壓力和流量，提供了刀具性能的詳細視圖。總而言之,MATRIX Asset One 103旨在提供高效、精確的蝕刻和灰化工藝,並具有出色的質量控制。此模型具有廣泛的高級功能,使其能夠針對特定的應用程序進行定制,並提供出色的流程重復性和控制性。它是現代半導體蝕刻和灰化要求的理想選擇，為用戶提供了快速高效生產最優質產品的能力。
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