二手 MATRIX System One 105 #9098082 待售
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ID: 9098082
晶圓大小: 4"-6"
Automatic photoresist stripper, 4"-6"
Microprocessor-controlled
Single wafer, single cassette
Independent control of:
Pressure
RF Power
Temperature
Gas flow
Substrate position
Includes:
600W RF water cooled generator (ENI OEM-6)
Optically isolated wafer processing environment
Patented interleaved electrode assembly
Multi-step (3 Steps + over etch) process program
Butterfly valve for more precise pressure control
Phase magnitude detector to provide real-time RF impedance matching control
(2) Mass flow controllers (TG 5 SLPM, 300 SCCM)
Closed-loop control of substrate temperature
Temperature range: 80°C to 250°C
Pin movement (Up and down).
MATRIX Equipment One 105是為專門的等離子體蝕刻和灰化應用而設計的高性能蝕刻/灰化系統。該裝置能夠在幹蝕刻和濕蝕刻模式下運行，提供對蝕刻深度和均勻性的精確控制。Machine One 105由三個組件組成，包括一個射頻電源、一個處理室和一個控制器模塊。射頻電源可為基板提供高達2.5kW的功率,從而可以對5 µm深度進行深度蝕刻。基板的電源是直接供電或通過金屬墊片掩模供電,具體取決於蝕刻應用。壓力密封室確保了等離子體蝕刻的理想真空條件。該工具的專有控制器模塊允許精確控制過程參數，包括等離子體蝕刻時間、過程壓力、總氣流和氣體成分，並允許最多四種煙霧被獨立監測。此外,快速循環的自動調諧功能確保了整個過程中的最佳處理條件。該資產還包括一個板載真空泵，以便於腔室撤離，以及允許方便數據傳輸和控制參數的軟件。具有觸摸屏操作的直觀用戶界面允許新手用戶快速開始蝕刻過程。MATRIX Model One 105設計用於廣泛的蝕刻和灰化應用，包括單層介電結構、淺溝隔離、金屬化、MEMS和集成電路生產。這種強大的設備既適用於研究，也適用於工業蝕刻應用。它經過了徹底的測試，證明符合安全和環境標準，使其成為業余愛好者和專業人士的可靠選擇。
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