二手 MATRIX System One 106 #9098085 待售

MATRIX System One 106
ID: 9098085
晶圓大小: 4"-6"
Automatic photoresist stripper, 4"-6" Microprocessor-controlled Single wafer, single cassette Independent control of: Pressure RF Power Temperature Gas flow Substrate position Includes: 600W RF water cooled generator (ENI OEM-6) Optically isolated wafer processing environment Patented interleaved electrode assembly Multi-step (3 Steps + over etch) process program Butterfly valve for more precise pressure control Phase magnitude detector to provide real-time RF impedance matching control (2) Mass flow controllers (TG 5 SLPM, 300 SCCM) Closed-loop control of substrate temperature Temperature range: 80°C to 300°C Pin movement (Up and down) Center drawer chuck Cooling station.
MATRIX Equipment One 106是洛克希德·馬丁公司先進能源技術公司開發的全自動高性能蝕刻器/asher。它基於薄膜塗層系統常用的MATRIX-Y線性電機機構。該系統具有高精度和高速度,適用於從電介質到金屬等多種材料的應用。該單元的設計目的是在整個基板上提供高分子均勻性的塗層厚度,並確保所有方向均勻的蝕刻/灰化增長率。在單元的中心是一個多軸單位的精密X-Y線性電動機。這些電動機在X-Y平面中以1微秒分辨率移動蝕刻頭。蝕刻頭放置在真空室中進行蝕刻和灰分處理。在蝕刻過程中,真空室可針對不同基板進行優化蝕刻速率調整。壓力、溫度、氣體成分也可調節。溫度可達1000 °C,壓力可調節至最大200Pa。此外,Machine One 106還具有內置的、診斷驅動的自動化測試工具,用於確保對基板的最佳處理。此資產可確保蝕刻和灰化過程以最高精度進行。底物可以是硫屬化物、石英樣、鈦升華、二氧化矽、氮化矽、鋁等材料。MATRIX Model One 106是一種健壯的設備,可用於滿足最苛刻的工業項目的需求。精度高,重復性高,精度高。系統提供的高工藝公差使其適用於原型設計、功能測試和產品制造。還采用先進的控制單元技術,保證了每個蝕刻層的高度均勻性。蝕刻器/asher高度可靠且易於維護。它的機器備份還有助於確保設備在任何環境中都保持操作能力。
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