二手 MATRIX System One 106 #9098102 待售
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ID: 9098102
晶圓大小: 4"-6"
Automatic photoresist stripper, 4"-6"
Microprocessor-controlled
Single wafer, single cassette
Independent controller:
Pressure
RF Power
Temperature
Gas flow
Substrate position
Includes:
600W RF Water cooled generator (ENI OEM-6)
Optically isolated wafer processing environment
Patented interleaved electrode assembly
Multi-step (3 Steps + over etch) process program
Butterfly valve for more precise pressure control
Phase magnitude detector to provide real-time RF impedance matching control
(2) Mass flow controllers (TG 5 SLPM, 300 SCCM)
Closed-loop control of substrate temperature
Temperature range: 80° to 300°C
Pin movement (Up and down)
Center drawer chuck
Cooling station
Controller:
Gas flows: Up to 3
RF Power: 100 to 500 W
Process pressure
Absolute endpoint time
Optical endpoint parameters
Gas controller:
Substrate positioning
Pressure controller.
MATRIX Equipment One 106是一個功能齊全的蝕刻和灰化系統，用於半導體實驗室環境。對於那些尋求一種可靠的方法來制造晶片上的金屬圖樣的人來說，它是一個完美的解決方案，循環時間快，精度高，成本低。此單元能夠在可變厚度和掩模層上蝕刻和灰化多達8英寸的晶片。Machine One 106使用先進的技術特性,以確保獲得最佳的灰度和蝕刻效果。高精度、可重復的過程控制和快速的循環時間使其成為生產和研發活動的絕佳選擇。它使用水平旋轉的蝕刻和灰化平臺來提高精度。該工具還與自動倒車資產集成在一起，以確保晶圓的正確蝕刻、清潔和調節。MATRIX Model One 106包括一個可調節的射頻驅動電源，一個可調節的負載鎖，可調節的氣體輸送設備，以及可調節的頻率發生器。它具有可調節的單周期或雙周期蝕刻和灰化模式,因此您可以根據您的特定需求定制工藝。可調射頻驅動器還使System One 106能夠與不同的氣體和液體混合物一起使用，因此可以使用多種材料操作單元。MATRIX Machine One 106具有低維護和用戶友好的設計。它具有易於閱讀、直觀的用戶界面,可實現快速、準確的操作。該工具能夠在各種溫度和壓力環境中運行。它配備了多種安全特性和多種監控特性，確保晶片的處理安全準確。Asset One 106配備了多種組件,以實現高效可靠的蝕刻和灰化。它有一個機箱，旨在確保射頻環境的清潔度，它的可調性允許調整蝕刻過程。該模型的高精度確保了蝕刻和灰化過程將材料引導到所需的區域，浪費最少。MATRIX Equipment One 106為研發和生產用途提供了價格合理且可靠的蝕刻和灰化解決方案。對於那些想要在晶圓上獲得快速循環時間和可靠的金屬圖樣的人來說，這是一個絕佳的選擇。
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