二手 MATRIX System One #9201831 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9201831
晶圓大小: 6"
Stripper, 6"
Included ranging:
50mm up to 150mm
The system optimizes vital device parameters:
Enhanced gate oxide integrity
Reduced threshold and capacitance voltage shifts
Reduced contact resistance / Oxidation
Photoresist Stripping:
High dose implant
Post-polysilicon etch
Post-metal etch
Post-oxide etch
Controlled resist removal:
Post-develop descum (pre-etch)
Dry / wet process capability
Uniformity capability (<5% 1σ)
GaAs, InP wafer strip and descum
Thin film head resist cleaning
Opto-electronic devices cleaning
MEMS
Single wafer multi-Step Processing:
Precisely controlled & repeatable stripping of each wafer
(3) programmable steps + overstrip
Capable of long process times for exceptional control
High throughput:
35 WPH on 150mm substrate
Aluminum Wafer Chuck:
Fast
Precise
Uniform removal of resist
Low Particles:
0.1 particles (>0.3μm) added per cm2
Proven System Performance:
700 System ones in use worldwide
95% uptime
Proven Reactor Design:
Closed-loop temperature control
Stable range for strip:
150°C – 250ºC (+/-5°C)
For descum:
70°C – 150ºC .
MATRIX Equipment One是一款最先進的蝕刻器和asher，用於在金屬表面上激光標記元件。它非常適合工業標記應用，因為它適用於蝕刻堅韌的材料以及軟金屬，如鋁、鋼、黃銅、不銹鋼、鈦和銅。從蝕刻器和asher發出的激光束精確準確，可以快速容易地進行標記。System One的設計緊湊耐用，使用維護方便。其可調的底座允許對激光束進行精確的控制，並確保一致的結果。直觀的控制面板使控制設置、調整參數和預覽設計在提交過程之前變得容易。內置的安全功能確保了安全性和耐用性,同時還允許輕松清潔。該單元還包括一個光纖掃描儀，讀取所需的材料，並確保激光束正確定位。此功能可確保精確度和精確的圖案,無論蝕刻或粉刷的材料如何。自動化軟件允許輕松定制和精確復制模式，其復雜的成像算法保證精確的標記。該機器還可以輕松使用各種圖形和CAD軟件,從而實現快速輕松的設計。激光標記工藝的速度和精度使其成為多種工業和商業應用的理想選擇。它非常適合在各種材料上標記庫存部件、序列號、產品代碼、條形碼和徽標。蝕刻或ashed標記的大小也令人印象深刻，允許在短時間內創造出大量的高品質標記。MATRIX Tool One提供高速、精確的激光標記。它的特點、準確性和耐用性使其成為工業應用的理想選擇，也是任何想要產生質量一致結果的人的理想選擇。無論是標記金屬還是其他材料，資產一號都是最好的選擇。
還沒有評論