二手 MATTSON Aspen II #293619039 待售

MATTSON Aspen II是一種聚焦光束、蝕刻和灰化反應性離子蝕刻器（RIE）設備，用於各種高精度IC制造和先進材料研究應用。該系統的靈活性、準確性和可重復性使其成為從超高分辨率半導體器件陣列到沈積層蝕刻和灰化以及結構樣式等應用的理想選擇。蝕刻器提供了廣泛的高級處理能力，包括精密等離子體剖析、清潔操作、蝕刻光刻、批刻蝕刻和高速率蝕刻。它利用標準直流電源或過濾交流電源分別供電-從高頻到200 kHz（或低頻到50 kHz）基板電源。它配有一個或兩個平面線圈，用於在晶圓上均勻均勻的光束。該單元具有高端特點，如內置氦質譜儀，用於監測等離子體質量。這確保了流程的可重復性,並保證了長達3,000小時的流程壽命。該機器的創新腔室設計還提供了改進的基板溫度均勻性，以加快加工速度，溫度可達1,000C。集成的基於微處理器的工具控制允許用戶在過程運行過程中設置和存儲流程、監控腔室條件和trouleshoot。資產上提供的性能分析選項包括1,2和3 MHz可調節光斑尺寸的光學性能分析器、BME傳感器、實時光譜儀和可選的RGA傳感器。Aspen II的先進技術允許最多16個基板一次裝載和加工，最大基板尺寸為200毫米（8英寸）。基板支架的設計是為了在蝕刻過程中保持冷卻和靜止。高級安全功能包括檢測晶圓斷開並自動關閉模型的互鎖。MATTSON Aspen II的應用包括光掩模和基板的圖樣化、電介質或保形塗層的去除、陶瓷的高速率批量蝕刻以及深凹陷特征、溝槽、孔和柱子的蝕刻。該設備也是超導薄膜沈積、納米結構和圖樣傳遞的光刻定義、高產工藝產量、MEMS器件高精度蝕刻的絕佳選擇。