二手 MATTSON Aspen II #293633237 待售
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ID: 293633237
晶圓大小: 8"
Dual ICP systems, 8"
Cassette door cylinder, 18"
ICP Dual chamber with cooling chamber
(4) Quartz tubes
(4) RF Coils
(4) Channels gas lines per chamber with MFC
(4) AO Boards
(4) Matching boxes
(2) Heater blocks
(2) Slit doors
(2) Gas boxes
(2) DI/O Boards
(2) Process chambers
(2) RF Generators (Comet cito plus)
2-Lift pins
Pressure controller: (2) ACX, (2) Throttle valves
Robot
Shuttle
Arm
Platform
Cassette door
O-Ring and ISO valve
CPU Board
AI Board
Indexer boar
SECS II Board
PIB
Motor control board
Analog filter board
Terminal panel
Operator interface: Y (SMIF Type).
MATTSON Aspen II是一款高性能的精密蝕刻機,設計用於生產和研究環境中的可靠操作。其先進的技術使其成為蝕刻速率控制、基材均勻性、細線紋蝕刻應用的理想選擇。配備了快速而強大的10 kW RF電源和PZT換能器,Aspen II提供了出色的重復性、高分辨率特性和出色的選擇性。它能夠蝕刻矽、藍寶石、石英和玻璃等多種材料。MATTSON Aspen II配備了數字4軸CNC控制器,可輕松確保準確、可重復的處理。該機配備了廣泛的原位和異地工藝控制設備。這包括數字壓力控制、原位氯氣感應以及全自動浸入式預清潔和後清潔程序。這提供了出色的蝕刻精度和吞吐量,從而提高了產量,縮短了周期時間。Aspen II還具有先進的等離子體源和先進的射頻匹配系統。這種組合旨在提供極好的可重復等離子體,最小的逆損失和維持最好的工藝條件。等離子體源利用專利的多劑量系統(MDS)。它能夠提供均勻的輝光放電,可調諧以提供更高的沈積速率和提高蝕刻選擇性。MATTSON Aspen II還支持廣泛的蝕刻化學,包括氟基蝕刻、間接濕蝕刻和離子銑削。為了改進蝕刻結果,其工藝控制設備允許為每個加工的晶片設置優化的配方和蝕刻參數。它還能夠用化學和物理兩種方法清洗和剝離,例如超聲波攪拌。Aspen II為蝕刻和灰化應用程序提供了全面的解決方案。它提供了出色的重復性、高分辨率特征蝕刻和優化的吞吐量。其先進的過程控制和等離子體源設計保證了質量的結果與更少的維護和停機時間。
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