二手 MATTSON Aspen II #293807044 待售
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MATTSON Aspen II是一款基於高性能微控制器的Plasma Asher/Etcher設備，非常適合研發和生產加工。該系統能夠在各種氣體和工藝化學中進行蝕刻和灰化。該單元包括一個電極電源和一個工藝室，允許廣泛的薄膜蝕刻和沈積過程。Aspen II機的工作壓力範圍為1-100毫升，利用遠程等離子體源和RF RF/DC脈沖電源產生高密度的等離子體羽流。這種羽狀物在甲烷、氙和氧的範圍內具有彈性，其他稀有氣體和離子可用於專門的應用。用於等離子體離子特性分析的集成二次離子質量檢測器（SIMS）為用戶提供精確的過程曲線和等離子體蝕刻結果。MATTSON Aspen II的精密工程構造和在其構造中使用的先進材料使其成為一種堅固可靠的工具。該資產還在其設計中內置了幾項保護措施，如用於流加熱的防回流和真空冷卻器，使其成為蝕刻堅韌材料的理想選擇，如石英，以及多種半導體材料。該模型具有幾個安全特性，使其適用於敏感過程，包括深紫外線濾波、慢速脫氣特征和晶圓光敏跟蹤系統。自動化的Aspen II易於使用,並且可以以最小的工作量集成到任何現有的流程工具包中。最後,高性能設備確保了工業級蝕刻/灰化系統所期望的過程質量的一致性、可重復性和高度可控性。其用戶友好的圖形用戶界面（GUI）提供了簡單的編程、預處理設置和對流程的完整監控。MATTSON Aspen II具有出色的中程壓力均勻性，能夠以高達9um的精度進行蝕刻。Overal, Aspen II是所有蝕刻/灰化應用程序的絕佳選擇,使用戶能夠以高度的可重復性、均勻性和成本效益獲得卓越的工藝效果。
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