二手 MATTSON Aspen II #9185171 待售

MATTSON Aspen II是一種反應性離子蝕刻和asher設備，專門設計用於半導體晶圓制造工藝。該系統能夠用各種蝕刻/灰分工藝化學方法對基材進行蝕刻和灰化。它具有高速、高通量的蝕刻和灰度，這要歸功於其精確定位的電極、非常高的重復性和低汙染水平。Aspen II旨在同時處理酸和氣體，並且可以處理所有類型的蝕刻/灰分工藝化學，而無需進行重大修改。MATTSON Aspen II可以用於入射基板的等離子體蝕刻、灰化和灰化蝕刻，以及薄膜的沈積。該單元自成一體，在單級真空室中運行，密封並保持在特定壓力下。它包括一臺蝕刻/灰分氣體輸送機、一個反應室、一個射頻輻射電源以及一個用於操作和監測過程的控制器。該腔室的定制設計是通過精心設計的電極陣列對基板進行均勻蝕刻，提供對基板表面化學的非常精確的控制。使用Aspen II的優點包括循環時間快、吞吐量高、重復性極高、汙染水平低。該工具設計為在低壓環境中運行，在此環境中，蝕刻工藝經過優化，以獲得最佳效果。內置氣體輸送資產是可編程的，以便在處理不同的工藝化學和底物時提供靈活性。射頻輻射電源進一步確保了蝕刻過程的準確和控制。車型的保養也很簡單，性價比也很高。腔室和氣體輸送設備可以拆卸清洗，需要時容易更換所有零件。該系統還配置用於自動診斷和故障排除,這使得維護非常快速和容易。最後，MATTSON Aspen II是一種非常有能力的蝕刻和粉刷裝置，專門設計用於半導體晶圓的制造過程。它具有很高的準確性和效率，必要時很容易更換其組件。無論是在初始投資方面，還是在維護和保養方面，它也非常具有成本效益。對於任何需要可靠、可重復、快速蝕刻和粉刷基板的行業來說,Aspen II都是一個很好的解決方案。