二手 MATTSON Aspen II #9407761 待售

MATTSON Aspen II是一種中等功率到高功率的等離子體蝕刻反應堆。它能夠蝕刻各種類型的晶片，包括砷化氙、矽、氮化氙和磷化銨。Aspen II提供了一個大的、高度精確的工藝包絡,允許對平面、平面和3D幾何形狀進行精確蝕刻。MATTSON Aspen II配備了感應耦合等離子體源來產生等離子體，以及下遊表面安裝的屏蔽來幫助遏制等離子體並減少汙染。該源能夠產生氧氣和CF4等離子體，峰值功率高達1400瓦。該源利用計算機控制系統，保證了過程參數的一致供電和可重復性。Aspen II在蝕刻工藝幾何形狀方面提供了高度的靈活性。腔室可以容納直徑不超過12英寸、深度不超過3英寸的晶片。它能夠蝕刻錐形和浮雕特征，以及更復雜的結構。此外，MATTSON Aspen II與各種下遊工藝室兼容，包括電鍍、光刻和沈積。Aspen II的其他特性包括它能夠蝕刻最小分辨率為0.1um的細紋，以及在晶圓表面上蝕刻速度的高均勻性。MATTSON Aspen II也提供高吞吐量，處理時間為每晶圓5分鐘或更短。Aspen II是一個理想的蝕刻研究工具，由於其大的工藝包絡和高通量。其高度的柔韌性和精確度使其適合於不同基材的高級蝕刻。