二手 MATTSON Aspen #293774634 待售
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ID: 293774634
晶圓大小: 8"
優質的: 1999
System, 8"
Process: PR Asher
MATTSON Standard dual arm robot
Back chamber: RISSHI EXH-1004 Chiller
Utility box: PCW Distribution
Chamber position:
Back chamber: ICP Asher
Side chamber: ICP Asher
Back and side chamber:
Process: PR Asher
Tube material: Quartz
ADVANCED ENERGYE RFPP 30S RF Generator
TRAZAR AMU-10D-3 RF Matcher
CMLB-11506 Pressure guage
MDV018 Throttle valve
ACX120103 Throttle valve controller
PARTLOW MIC 2000 Temperature controller
Gas box:
Gas-1: O2, 5000 SCCM
Gas-2: O2, 200 SCCM
Gas-3: CF4, 300 SCCM
Gas-4: H2/N2, 3000 SCCM
Transformer: 200 VAC - 100 VAC
1999 vintage.
MATTSON Aspen是一家領先的用於半導體行業的蝕刻和灰分設備制造商。MATTSON成立於1988年，在生產符合半導體制造工藝苛刻要求的先進、可靠、高性能的蝕刻和灰化工具方面建立了良好的聲譽。Aspen系列蝕刻器和灰燼機設計用於提供先進半導體器件制造中必不可少的精確、均勻的蝕刻和灰化工藝。這些工具被用於半導體制造設施，在制造過程中有選擇地從晶片表面去除材料。MATTSON Aspen系列提供了一系列針對各種處理需求和應用而量身定制的蝕刻和灰化解決方案。這些工具以處理各種材料的多功能性、準確性和效率著稱，包括矽、二氧化矽、金屬薄膜和電介質。Aspen系列的一個關鍵特點是其先進的過程控制能力。這些工具配有高級監控和控制系統，可確保精確的過程參數，如蝕刻速率、選擇性、均勻性和端點檢測。這使半導體制造商能夠實現高工藝重復性和產量,這是實現設備性能一致的關鍵因素。MATTSON Aspen蝕刻器和ashers的設計也註重生產力和靈活性。這些工具旨在提供高吞吐量和快速處理速度,使半導體制造商能夠滿足嚴格的生產計劃並最大限度地提高晶圓輸出。此外,這些工具還提供模塊化設計,便於定制和升級,以適應不斷變化的流程要求。在技術方面，阿斯彭系列融合了先進的等離子體蝕刻和灰化技術，以實現精確和受控的材料去除。這些工具利用一系列等離子體源，包括電感耦合等離子體（ICP）、電容耦合等離子體（CCP）和反應性離子蝕刻（RIE），以高選擇性和均勻性蝕刻和灰分材料。MATTSON Aspen工具還具有創新的腔室設計和氣體輸送系統，可優化工藝均勻性，增強蝕刻和灰燼性能。工具配有射頻電源、氣流控制器、溫度控制系統、端點檢測傳感器，確保過程控制準確、效果可靠。此外,Aspen系列還提供全面的服務和支持網絡支持,包括維護、培訓和應用程序支持,以幫助客戶優化工具性能並最大限度地提高運營效率。MATTSON由經驗豐富的工程師和技術專家組成的團隊與客戶密切合作,以應對其特定的流程挑戰,並確保成功實施這些工具。總體而言,MATTSON Aspen系列蝕刻器和分類器是創新、可靠和高性能的工具,在使半導體制造商實現高質量的設備制造和滿足快速發展的半導體行業的需求方面發揮著至關重要的作用。Aspen工具非常註重先進的工藝控制、生產率和技術創新,非常適合半導體制造設施,力求在半導體器件制造方面取得卓越成就。
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