二手 MATTSON Paradigm SI #293820191 待售

MATTSON Paradigm SI是最新的電化學蝕刻技術，在設計時考慮到精密和高性能。大面積蝕刻工藝的特點是具有高密度特征和低成本的工藝材料。優化單晶片工藝，使1 µm方陣蝕刻具有極好的總收率，完全消除了邊緣拉斷或相關電氣缺陷的風險。對Paradigm SI進行高效的單晶圓處理,可顯著節省與雙通或三通流程相關的返工成本。MATTSON Paradigm SI非常適合要求具有高度均勻輪廓和橫截面特征的高精度蝕刻特性的應用。此過程還允許通過使用專門設計的窗口掩碼實現高長寬比蝕刻,這些掩碼可與多級蝕刻過程結合使用。蝕刻特性的非凡均勻性使得這種蝕刻工具非常適合MEM應用和微流體設備。該設備還能夠根據蝕刻工藝要求進行幹式和濕式化學蝕刻作業。該工藝的幹蝕刻部分是使用低頻高壓交流電源完成的，該電源采用兩級工藝運行；第一階段側重於降低表面清潔狀態，而第二階段則是蝕刻階段。濕蝕刻工藝采用高度選擇性的化學液體化學組合，如氫氟酸、硫酸等。範式SI還得益於智能監控系統，該系統監控整個蝕刻過程，從基板制備到最終產品。這確保了激光燒蝕和蝕刻結果的可重復性和可預測性，因為監視器不斷提供有關蝕刻速率、濺射屈服和其他相關參數的反饋。該單元還與用於控制所有刀具功能和參數的監控控制機器集成在一起，允許用戶跟蹤隨著時間推移的蝕刻進度以及完整的全流程可追蹤性。總體而言,MATTSON Paradigm SI是一款高度精密的蝕刻器,其特點和功能使其非常適合需要可靠、可重復和可重現的蝕刻特征結果的應用程序。此資產允許各種蝕刻過程,能夠處理高長寬比蝕刻,並提供出色的過程控制和可追蹤性。