二手 MATTSON Paradigm SI #9231983 待售

MATTSON Paradigm SI是一種用於半導體加工應用的各向異性蝕刻器/asher。它利用多階段的循環過程來實現對蝕刻/灰化過程的非常精確的控制。該過程從幹蝕刻步驟開始。腔室充滿了一個氣體等離子體，由射頻場產生，來自一個13.56 MHz的電源。這個過程剝去晶圓表面的汙染物，並將其轉化為氣態。蝕刻後進行濕法處理。將氫氧化鉀（KOH）和去離子水溶液引入室內，用於與汙染物發生反應。這種反應和隨後的KOH蒸發有助於進一步剝離材料，同時確保表面光滑。灰化相利用氧氣（O2）等離子體和熱氮（N2）氣流的組合。這有助於分解晶圓表面的有機材料，減少碳積聚量。該過程的最後階段有助於改善表面粗糙度,並從蝕刻/灰化過程中去除任何殘留材料。采用Ar和O2等離子體定時工藝對晶片表面進行濺射，進一步改善表面紋理，最大限度地減少電路壽命退化的問題。範例SI能夠非常精確地控制Etch/Ashing過程。此精度有助於確保產品的最佳質量和縮短周期時間。多級工藝確保了基板之間的高度均勻性和非常幹凈的表面光潔度。這使得MATTSON範式SI成為介電層、屏障層和金屬化層的理想選擇。