二手 MAXIS 300LAH #9258012 待售

MAXIS 300LAH是為高吞吐量應用而設計的高級蝕刻和灰化設備。該系統配有300納米零離子源和高速脈沖控制，提供卓越的蝕刻和灰化效果。300LAH由一個緊湊的四軸機器人控制器、一個自動晶片裝載機、一個多模晶片處理程序和一個300納米Ga離子源組成。晶圓處理單元允許以高達每小時500晶圓的吞吐量速率同時蝕刻和粉刷兩個晶圓。自動加載程序允許一次快速加載多達15個晶片,而多模式晶片處理程序允許處理不同的晶片模式,而無需額外的手動設置。300納米Ga離子源設計為產生高質量的蝕刻和灰化效果。離子源配有高溫高壓噴射撇渣器，產生均勻、高通量的輸出。它還具有一個專有的電子沖擊發射器，產生一束穿透晶圓表面的高能離子束，從而改善蝕刻和灰化效果。此外，可以調整光束的產生以產生不同的表面效果，以獲得各種結果。先進的自動對焦機有助於提高過程的均勻性和準確性。該工具具有自調整級對焦平面間隙,可精確控制光束的形狀和方向,確保離子以質量蝕刻和灰化過程所需的精度撞擊晶片。MAXIS 300LAH具有出色的安全特性,如離子室凈化、資產診斷、光束和晶圓安全反饋系統以及警報模型。所有這些功能都為用戶提供了安全的環境,從而實現了安全可靠的操作。總之，300LAH是一個功能強大的多功能蝕刻和asher設備，設計用於高吞吐量的應用。300奈米的氙離子源、自動對焦系統和先進的安全特性，可以實現高效、精確的蝕刻和灰化工藝。這個單元非常適合大型生產和研究用途。