二手 MRC RIE-51 #9382964 待售

MRC RIE-51是一種先進的等離子體蝕刻器/灰化器,它具有很大的工藝能力,為蝕刻和灰化工藝提供了顯著的優勢和靈活性。RIE-51采用模塊化設計,具有廣泛的工藝和選項,適用於各種行業和高端研究環境中的高級幹蝕刻和灰化工藝。MRC RIE-51的模塊化設計允許定制所有蝕刻工藝室組件,以實現最大程度的工藝靈活性、效率和可重復性。腔室溫度高達400 °C,壓力範圍為0.1至2.0 torr,因此設備的加工能力涵蓋了極為廣泛的應用。它與大多數氣體化學體系兼容，具有高性能的氣體引入過濾和優越的氣流控制。高真空泵提供快速、精確的真空泵以及低維護。集成、直觀的控制系統提供高效的過程控制、溫度和壓力監控以及整體單元監控。此外,先進的安全功能確保操作人員的安全.蝕刻源分為兩個區域，其中壓力、溫度、流量等眾多參數是獨立控制的。它還具有最佳匹配的射頻加熱、蝕刻和預偏置技術。這允許用戶根據自己的特定需求定制蝕刻過程。RIE-51還提供先進的清潔功能，包括幹濕清潔。濕式清潔有多種選擇，包括采用多種化學方法進行單步或雙步清潔，以實現最高的清潔效率。先進的幹洗選項，如等離子體色調清洗，德加，和淬火可用於最具挑戰性的軟或硬材料蝕刻任務。MRC RIE-51出色的可重復性和高工藝能力使其適合廣泛的應用，包括晶圓蝕刻和灰化、MEMS制造、先進的SOI設備制造等等。還具有先進的技術選擇,包括氫氣端接、熱塗層去除和變頻蝕刻能力。模塊化和高級選項的結合使用戶能夠根據自己的需要對機器進行定制,使其成為一個高效、經濟高效的解決方案。