二手 NOVELLUS Gamma 2100 #9228361 待售
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ID: 9228361
晶圓大小: 8"
優質的: 2002
Asher, 8"
(2) Wafer loaders for 8" Open cassette
PATLITE WMEEN Signal tower
(2) LCDSA141 Monitors
(3) ADTEC AX-1000 II RF Generators
MKS 325 ModuceII pirani vacuum tranducer
MKS 153 Pressure control valve
MKS 622 Pressure gauge
(8) WATLOW 988 Series temperature controllers
MFC:
Model / Gas / Scale
UFC-8160 / O2 / 5 L
UFC-8160 / CF4 / 200 SCCM
UFC-8160 / O2 / 5 L
Power supply: 208 V, 60 A, 50/60 Hz, 3 Phase
Hard Disk Drive (HDD) Missing
2002 vintage.
NOVELLUS Gamma 2100是NOVELLUS Systems針對IC封裝應用開發的蝕刻器/asher。它是一種采用感應耦合等離子體(ICP)蝕刻和化學氣相沈積(CVD)工藝的多過程單室蝕刻器/灰化器。伽瑪2100可以蝕刻銅(Cu)或鋁(Al)金屬化層和復合通過填充層,用於高長寬比封裝。NOVELLUS Gamma 2100能夠蝕刻鋁、鈦、鎳、金、銀、合金、以及薄膜金屬化結構的Cu基材料等材料。還可以針對一系列工藝參數進行編程,如基板溫度、射頻頻率、射頻功率和蝕刻流速,從而優化蝕刻速率和特征輪廓質量。此外,在單個腔室中蝕刻多層結構的能力可以加快吞吐量。Gamma 2100 蝕刻器/asher配備了包括兩個獨立模塊的工藝室。第一個模塊使用ICP工藝蝕刻材料層。這個過程創造了一個高溫、高密度的等離子體源,利用低溫ICP源的冷等離子體技術蝕刻材料。第二個模塊用於使用矽基化學沈積化學氣相沈積(CVD)層。該模塊還包括一個獨立的冷晶片支架,以促進CVD層的共平面化。NOVELLUS Gamma 2100還有一個熱區,可以針對特定的應用程序流程量身定制。熱區可以維持各種基材溫度,以保持蝕刻過程穩定,同時確保晶圓在蝕刻過程中保持平坦。熱區的溫度可在200°C至500°C之間調節。此外,蝕刻器/粉碎器采用快速負載鎖定系統,將加工室與環境完全隔離,並清除腐蝕性和危險材料,以便安全處置廢物。此外,Gamma 2100最多可支持五種不同的蝕刻化學方法來蝕刻各種薄膜結構。NOVELLUS Gamma 2100 蝕刻器/asher是一個用戶友好的系統,允許操作員快速更改程序和組件以跟上不斷變化的產品需求。它是一種可靠且高度精確的蝕刻工具,具有很高的生產率,能夠滿足最苛刻的包裝要求。
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