二手 OXFORD 80 PECVD #9131938 待售

OXFORD 80 PECVD（等離子體增強型化學氣相沈積）是一種先進的幹蝕刻/灰化設備，能夠以精確和經濟高效的方式處理各種材料。PECVD工藝利用氧化和還原化學物質的氣體混合物，在等離子體室內進行混合和電離，以創造高反應性環境。結果是薄膜層的沈積，同時蝕刻或沖洗掉不希望得到的材料，從而對材料特性進行精確的控制和操作。OXFORD 80+PECVD模型是為過程靈活性和性能而構建的。它包括一個6區工藝室，內部基板溫度控制系統從15°C到250°C。高級流程控制單元允許精確調整和可重復的流程參數。機器還采用了可選的純射頻通道加法，它提供了額外的離子，用於優化蝕刻和灰化過程，而不會造成等離子體損壞的風險。80 PECVD可以蝕刻鋁、銅、金、鉑等材料。它還可以對聚酰亞胺、光致抗蝕劑、低k電介質、GaAs結構等材料進行灰化處理。該工藝能夠在單個腔室中以高通量整流精細沈積步驟，從而提高工藝效率。此外,80+ PECVD還提供了出色的過程重復性,可實現最大產量和可靠性。OXFORD 80 PECVD是半導體器件制造和微加工應用的理想工具。廣泛應用於汽車、航天、消費電子等行業。蝕刻器/asher提供卓越的蝕刻和灰燼質量,能夠安裝復雜而精致的集成電路組件,這些組件需要精確的性能和可靠的操作。總體而言,OXFORD 80+PECVD是一種對各種材料進行高效且經濟實惠的蝕刻/粉碎器。它提供了極大的靈活性、過程控制和可靠性,非常適合各種微加工過程。