二手 OXFORD INSTRUMENTS Opal #293759975 待售
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ID: 293759975
晶圓大小: 4"
優質的: 2015
Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) system, 4"
Mass Flow Controller 1: H2 50 SCCM
Mass Flow Controller 2: NH3 100 SCCM
Mass Flow Controller 3: N2 100 SCCM
Mass Flow Controller 4: O2 100 SCCM
Mass Flow Controller 5: Ar 100 SCCM
Substrate holder: 240 mm resistance-heated (up to 400°C)
Remote Plasma source: 300 W Capacity at 13.56 MHz (RF generator and automatic matching unit)
Metal precursors delivery: (2) Bubblers and (2) vapor drawns
Gas lines: Non-toxic gas lines (3 lines) and toxic gas lines (2 lines) with individual Mass Flow Controller (MFC)
Water delivery kit
Ozone generator
Vacuum gauges: 1000mT CM gauge and Penning
Pumping pipe work: 40 mm (heating kit)
Materials tested: Al2O3 films only with Ar, O2, TMA
TMA Precursor
Silicon wafer
PC
Operating system: Windows 7 Pro
2015 vintage.
OXFORD INSTRUMENTS Opal是一款尖端的等離子體蝕刻器/asher設備，旨在為半導體、MEMS和納米技術行業的廣泛應用提供先進的處理能力。這套創新系統將最先進的技術與精密控制相結合，實現各種材料的高度精確、均勻的蝕刻和粉刷，使其成為研發實驗室以及生產環境不可或缺的工具。蛋白石單元利用高密度等離子體源產生高能等離子體，通過化學和物理過程的結合有效地從底物中去除物質。該等離子體源由先進的射頻（RF）等離子體技術提供動力，使密度、溫度和離子能量等等離子體參數的精確調諧能夠優化不同材料上的蝕刻和灰化性能。OXFORD INSTRUMENTS Opal的一個關鍵特點是其先進的過程控制能力，允許用戶實時定義和監控關鍵過程參數。該機器配備了一個用戶友好的界面，提供對各種流程配方的訪問，並允許輕松定制流程參數以滿足特定要求。這一級別的控制使用戶能夠實現較高的流程重復性和可靠性，確保一批又一批的結果一致。蛋白石工具還提供了高度的靈活性，具有處理各種基材尺寸和類型的能力，包括矽、玻璃、III-V材料、聚合物等等。該資產配備了多用途的晶片卡盤設計，容納了不同的晶片大小和形狀，可以同時處理單個晶片和批處理模式，以滿足不同應用的需要。在蝕刻能力方面，OXFORD INSTRUMENTS Opal模型擅長在廣泛的材料上實現高蝕刻率和選擇性，使其非常適合於模式轉移、材料去除和設備制造等應用。該設備能夠產生高長寬比的高各向異性蝕刻剖面，從而能夠以高精度和保真度制造復雜的微結構。此外，蛋白石系統還配備了先進的灰化能力，用於去除底物中的有機汙染物和光致抗蝕劑殘留物。該裝置的高密度等離子體源有效地分解了有機材料和揮發性化合物，留下了幹凈且無殘留物的表面，而不會損壞下面的底物。總體而言，OXFORD INSTRUMENTS Opal是一款尖端的等離子體蝕刻器/asher機器，為各種納米技術應用提供無與倫比的性能、精確控制和工藝靈活性。Opal工具以其先進的技術和創新的設計，是研究人員和制造商希望在半導體和微加工過程中取得高質量和可靠加工成果的有力工具。
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