二手 OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus #293824941 待售

OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus是一款高度先進的等離子體蝕刻器/asher設備,設計用於在研究和生產環境中精確高效地處理各種樣品。PlasmaLab 80 Plus以OXFORD INSTRUMENTS在等離子處理技術方面的著名專業知識為基礎,融合了尖端功能和創新的設計元素,提供卓越的性能和靈活性。OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus的核心是它的高密度等離子體源，它產生一個均勻穩定的等離子體，能夠提供高度各向異性的蝕刻/灰化剖面，具有非凡的選擇性和過程控制。該系統配備了多個氣體註入口和一個精密的氣體輸送單元，允許用戶量身定制工藝參數，以實現不同材料和結構所需的蝕刻特性。PlasmaLab 80 Plus具有寬敞的工藝室,具有較大的晶圓處理能力,可為高吞吐量應用程序在一次運行中處理多個樣品。腔室配有先進的溫度控制和壓力調節系統，可在整個蝕刻/灰化周期內將工藝條件保持在最佳水平，確保在整個樣品表面具有可重現的結果和極好的均勻性。OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus的關鍵優勢之一是其先進的流程監控能力。該機配備了一整套原位診斷工具，包括光發射光譜（OES）、質譜和激光幹涉測量，允許在處理過程中實時監測等離子體參數和氣體化學。這使用戶能夠即時優化工藝條件並進行調整以獲得所需的蝕刻結果。而且，PlasmaLab 80 Plus與OXFORD InSTRUMENTS直觀的過程控制軟件完全集成，它為設置過程配方、監控過程參數以及實時分析數據提供了用戶友好的界面。該軟件還提供高級數據記錄和分析工具，用於全面的流程優化和質量控制。除了在等離子體蝕刻/灰化方面的先進能力外，OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus還可以方便地配置用於廣泛的應用，包括反應性離子蝕刻（RIE）、深層矽蝕刻、聚合物去除和表面改性。該工具支持多種工藝氣體，如CF4、SF6、O2、Ar和Cl2，使其適合加工多種材料，包括矽、二氧化矽、金屬、聚合物和復合半導體。總體而言,PlasmaLab 80 Plus是一款用途廣泛且功能強大的等離子體蝕刻器/asher資產,為要求苛刻的研究和生產應用程序提供無與倫比的性能、靈活性和控制。OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus憑借其先進的功能、直觀的軟件界面和穩健的設計，是實現高質量蝕刻成果、加快半導體器件制造創新、MEMS/NEMS開發和先進材料研究的不可或缺的工具。