二手 OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus #293824942 待售

OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus是一款先進的等離子體蝕刻器/asher設備，設計用於半導體行業和其他材料研究應用的精密蝕刻和灰化工藝。此高性能工具采用了最先進的技術,為各種材料和設備結構提供卓越的過程控制、一致性和可重復性。PlasmaLab 80 Plus具有通用的雙源射頻等離子體系統,可實現蝕刻和氣相表面修改過程。其先進的等離子體發電裝置利用射頻電源和匹配網絡的組合，創造出非常適合蝕刻各種材料的高密度、低壓等離子體，包括矽、III-V化合物、金屬、電介質和聚合物。OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus的關鍵優勢之一是它的雙源配置，它允許使用不同的氣體和工藝化學方法來實現廣泛的蝕刻和灰分結果。該機器配備了多種氣體輸入和質量流量控制器，能夠精確控制加工氣體的組成和流量。這種靈活性使用戶能夠量身定制等離子體化學，以滿足特定的工藝要求，如蝕刻選擇性、側壁輪廓控制和蝕刻速率優化。PlasmaLab 80 Plus具有高性能靜電卡盤（ESC）和溫度控制功能,在加工過程中提供出色的基板穩定性和均勻性。ESC可以容納多種基材尺寸和類型，包括晶圓、片斷和形狀不規則的樣品。此外,該工具還采用了帶專用射頻偏置電源的無功離子蝕刻（RIE）配置,可精確控制離子能量和方向性,從而實現深度和各向異性蝕刻功能。OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus配備了精密的過程控制資產，允許對關鍵過程參數進行實時監控和調整，如氣體流量、壓力、射頻功率和溫度。模型軟件為配方創建、數據記錄和流程優化提供了一個用戶友好的界面，使用戶能夠在不同的工具配置或實驗室之間輕松開發和傳輸配方。在性能方面,PlasmaLab 80 Plus提供高蝕刻率和灰分率、出色的均勻性和可重復性,以及對敏感材料的低損壞。設備的高級端點檢測功能可確保在多個運行過程中進行精確的過程控制和一致的結果。此外,該工具的自動化清潔和維護例程有助於最大程度地減少停機時間,並確保隨著時間的推移實現最佳的系統性能。總體而言,OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus是一個先進的等離子體蝕刻器/asher單元,為半導體行業和材料研究領域的廣泛應用提供無與倫比的過程控制、靈活性和性能。PlasmaLab 80 Plus擁有先進的技術和用戶友好的界面,是研究人員和工程師尋求精確可靠的蝕刻和灰化結果的重要工具。