二手 OXFORD INSTRUMENTS Plasmalab 800 Plus #293831458 待售

OXFORD INSTRUMENTS Plasmalab 800 Plus是一款精密的等離子體蝕刻/灰化設備，專為先進的半導體加工應用而設計。該工具提供了對蝕刻參數的精確控制，以實現對各種基材的高質量、均勻的蝕刻結果。Plasmalab 800 Plus憑借其先進的技術和創新的特點，是微電子、微機電系統（Micro-Electro-Mechanical Systems）、光電子、納米技術等領域研發的多功能工具。OXFORD INSTRUMENTS Plasmalab 800 Plus具有雙頻等離子體源，提供增強的過程靈活性和控制能力。該系統同時配備了感應（ICP）和電容（CCP）等離子體源，允許用戶量身定制等離子體特性，以滿足特定的加工要求。雙源配置允許廣泛的等離子體化學和工藝條件，使單元適合各種不同的蝕刻和灰化應用。Plasmalab 800 Plus的關鍵優勢之一是其先進的過程控制能力。機器附帶了一套全面的軟件工具，允許用戶實時監控和調整流程參數。這包括控制氣體流量、壓力、射頻功率、偏壓和溫度。該工具還具有自動端點檢測和控制功能,可確保每個工藝步驟的精確蝕刻深度和端點檢測。OXFORD INSTRUMENTS Plasmalab 800 Plus憑借其先進的晶圓處理資產和腔室設計，提供了高度的工藝一致性和可重復性。該模型配備了堅固的真空負載鎖定機構，可確保快速可靠的晶片裝卸，而不會影響工藝質量。腔室設計融合了先進的氣體分布和等離子體限制特性，有助於在整個晶片表面實現均勻的蝕刻效果。Plasmalab 800 Plus支持廣泛的蝕刻工藝，包括反應性離子蝕刻（RIE）、深度反應性離子蝕刻（DRIE）、等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）和等離子體清洗/灰化。該設備能夠蝕刻各種材料，如矽、二氧化矽、氮化矽、金屬、聚合物和復合半導體。這種多功能性使得OXFORD INSTRUMENTS Plasmalab 800 Plus成為制造具有高長寬比和精細特征尺寸的復雜微結構和設備的理想工具。除了處理功能外,Plasmalab 800 Plus還提供了一個用戶友好的界面,簡化了操作和維護。該系統具有直觀的軟件控制和監控界面，允許用戶以最少的培訓設置和運行流程。該單元還包括用於故障排除和預防性維護的內置診斷工具,確保最大正常運行時間和工作效率。總體而言,OXFORD INSTRUMENTS Plasmalab 800 Plus是一款最先進的等離子體蝕刻/灰化機,為要求苛刻的半導體研發應用提供精確控制、過程靈活性和高性能。其先進的技術、過程控制特性和用戶友好的界面，使其成為從事微電子、MEMS、光電子和納米技術等領域的學術和工業用戶的寶貴工具。