二手 OXFORD Plasmalab 100-ICP 180 #293765810 待售

OXFORD Plasmalab 100-ICP 180是一種蝕刻/asher設備,旨在提供高分辨率、可重復和可靠的多種材料處理。它是一個單晶圓，雙口袋系統，最大基板尺寸為200毫米（8英寸），最小基板尺寸為150毫米（6英寸）。它利用感應耦合等離子體源技術進行先進的蝕刻/灰化技術，能夠達到每分鐘100納米的蝕刻速率。單元核心由先進的氣體輸送機、感應耦合ICP等離子體源、強大的射頻發生器、真空泵、控制單元組成。該工具的設計使光刻帶、蝕刻、灰化等多種工藝易於集成。雙口袋設計允許用戶快速交換不同流程的腔室，並支持雙面處理。此外，資產支持廣泛的氣體及其相應的過程，包括Ar、F2、O2、CF4、CHF3、SF6等。該模型還通過先進的等離子體控制技術提供過程控制和可重復性。OXFORD PLASMALAB 100/ICP 180對兩個腔室都有先進的溫度控制，使用戶可以在整個蝕刻/灰化過程中保持穩定的溫度。該設備還提供可編程氣流設置，使用戶能夠比以往任何時候都更精確地設置和調整工藝參數。該系統完全自動化，通過用戶友好的觸摸屏界面進行控制。它提供了專為易於使用和可靠性能而設計的內置軟件包。該設備還可以與現有的制造系統和網絡集成,以實現可靠、高效的工藝。Plasmalab 100-ICP 180非常適合用於半導體、消費電子、太陽能和MEMS制造。它非常可靠,為高級流程提供最高級別的控制。PLASMALAB 100/ICP 180以其先進的技術、卓越的溫度控制、強大的工藝重復性，是高分辨率應用中高級蝕刻/灰化工藝的絕佳選擇。