二手 OXFORD Plasmalab 100-ICP 180 #293807546 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
ID: 293807546
晶圓大小: 4"-6"
Etching system, 4"-6"
Type: III-V, II-VI
Gas configuration: CH4, H2, BCl3, Cl2, Ar, O2, SF6
Used for GaN, GaOx, and GaAs, and associated compound semiconductors
(1) ALKATEL 2063 C2 Oil Perfluoropolyether (PFPE) Pump
(1) ALKATEL 2015 Oil Perfluoropolyether (PFPE) Pump
BETTA-TECH CU50 Chiller.
OXFORD Plasmalab 100-ICP 180是一款由OXFORD Instruments制造的高度先進的蝕刻器/asher。它是為大面積和深度蝕刻高電子遷移率晶體管(HEMTs)、先進的微電子芯片和晶圓級設備集成而設計的。該系統提供對蝕刻和灰度參數的完全控制,如蝕刻時間和大小、方向、功率、壓力和氣體純度,並配有直接驅動晶圓處理單元,確保獲得最高的精度和效率。OXFORD PLASMALAB 100/ICP 180配備了高效、大功率的感應耦合等離子體(ICP)源,能夠產生產生電離粒子的短時間等離子體脈沖。此功能可降低蝕刻速度,通常在蝕刻大面積時會看到這種速度減慢。此外,它還提供了整個晶圓表面的出色的蝕刻均勻性.Plasmalab 100-ICP 180還擁有晶圓級水槽冷卻機。這允許快速冷卻過程收集蝕刻過程產生的廢熱,從而保證過程中材料的完整性。此外,它還提供了出色的蝕刻角度和尺寸精度在整個晶圓.在蝕刻氣體方面,PLASMALAB 100/ICP 180提供了一系列精確的混合物,這些混合物由但不限於氟化氫/二氧化碳混合物、SF6/SF4混合物和三氟化硼/氙混合物組成。這使用戶能夠實現沿晶片線的高均勻性蝕刻速率,從而提高了特征精度以及更清晰的輪廓邊緣。為了提供準確的結果,OXFORD Plasmalab 100-ICP 180配備了先進的壓力控制和真空室監測系統。這些系統可以精確控制腔室中的壓力,從而確保更高的工藝精度和可重復性。總體而言,OXFORD INSTRUMENTS OXFORD PLASMALAB 100/ICP 180是一種理想的蝕刻器/粉碎器,可保證完美的過程控制和可重復性-使用戶能夠在執行蝕刻/灰燼應用時實現速度和精度。
還沒有評論