二手 OXFORD Plasmalab 100+ ICP 380 #293768915 待售
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ID: 293768915
晶圓大小: 8"
Reactive Ion Etcher (RIE), 8"
Process: Ar and O2
Hine robot
9-Slots cassette module
Gases: O2, CHF3, CF4, SF6, Ar, C4F8, BCL3, CL2
Power supply: 415 V, 3 Phase.
OXFORD Plasmalab 100+ICP 380是一款行業領先的等離子體蝕刻和灰化設備,其獨特設計可提供精確控制、低擁有成本和操作過程中的靈活性。該系統配有380mm腔室尺寸和直徑6英寸的工作臺,可承受高達40磅的負載。其獨特的壓力體地球儀設計采用了正在申請專利的諧振器技術,該技術提供均勻的等離子體,具有均勻的功率分配,在蝕刻時能夠更清晰的線條和更平滑的輪廓。該機組的射頻和直流電源均可調節,使其成為市場上最通用的蝕刻或灰化系統之一。可調節的射頻電源允許PE和ICP在高達100瓦的功率下運行,並且可以即時調諧高達40kHz的頻率。可調直流電源具有30瓦的連續最大功率和高達555伏的即時控制功能。這使得OXFORD PLASMALAB 100 ICP 380成為單層和多層工藝的絕佳選擇。PLASMALAB 100-ICP 380還帶有直觀的交互式觸摸屏,使操作和設置變得輕而易舉。這種基於圖形的控件使用戶能夠方便地實時監控和調整蝕刻參數,並密切關註腔室的內部溫度,這些溫度在腔室視圖和熱成像特征下很容易看到。用戶友好的觸摸屏還提供了蝕刻過程的詳細摘要,並提供了詳細的圖形和數據收集功能,以實現精度控制。Plasmalab 100+ICP 380還提供可靠的安全措施來保護用戶和設備。標準的安全特性包括壓力互鎖、腔室真空壓力控制和防腐蝕設計。此外,機器的下泵時間由內置的安全邏輯管理,以確保在RF電源啟動前腔室得到適當的疏散。總體而言,OXFORD PLASMALAB 100-ICP 380是一個出色的激光蝕刻和灰化平臺,可提供出色的控制、低成本和廣泛的安全措施。其可調節的電源、直觀的觸摸屏和動態特性使其成為精密流程和動態應用的絕佳選擇。
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