二手 OXFORD Plasmalab 100 ICP #293663032 待售

OXFORD Plasmalab 100 ICP是用於半導體制造應用的通用蝕刻和灰化設備。它以可靠的性能、成本效益和簡單的操作而聞名。該系統采用雙室設計，允許對材料進行並行處理，以縮短加工時間。該單元包括一個碳氫化合物蝕刻室和一個清潔幹燥的灰化室。碳氫化合物蝕刻室設計用於容納包括金屬沈積、多晶矽和玻璃在內的一系列底物。它提供500 °C的最高溫度，與包括HF、HCL、Ar和O2在內的各種氣態介質兼容。機器中的碳氫化合物蝕刻室為蝕刻過程提供了良好的選擇性和表面輪廓控制。清潔幹燥灰化工具具有石英管配置和集成射頻等離子體源。該腔室在500 °C運行，允許多晶矽層、矽氧化物和玻璃的高速率沈積。該資產還有一個內置的等離子體控制器，用於對工藝參數進行高效、精確的控制。Plasmalab 100 ICP為操作和過程監控提供了簡化且用戶友好的界面。它旨在方便地集成到現有的制造過程中,並具有一系列配方和用戶可定義的工作參數,以提高生產率。該模型還提供高級監控功能,包括故障診斷、檢測過程異常和自動配方控制。此外，Oxfod OXFORD Plasmalab 100 ICP采用了最新的印刷和數字圖像捕捉技術，以便能夠打印和查看晶圓圖樣。Plasmalab 100 ICP是一種先進的設備，設計用於高性能和精確控制蝕刻和灰化過程。其直觀的軟件允許快速、輕松的操作,其強大的設計確保了長期可維修的操作。這種高度可靠的系統適用於中型和大型半導體制造應用，是實驗室和研究中心的理想選擇。