二手 OXFORD Plasmalab 100 Plus #293637903 待售
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ID: 293637903
ICP Reactive Ion Etcher (RIE)
(6) Gas lines
Gases: CH4, H2
ICP Source, 3 kW
RF Generator, 600 W
Does not include turbo pump.
OXFORD Plasmalab 100 Plus是一款第二代多頻、中等尺寸的感應耦合等離子體(ICP)蝕刻/asher設備。這種ICP 蝕刻器/asher能夠對各種材料進行精確蝕刻,包括多晶矽、二氧化矽、氮化矽、光刻膠、金屬氧化物和金屬氮化物。它采用高壓、低功率和快速循環時間等最佳工藝條件進行設計。ICP蝕刻工藝具有很高的可重復性,能夠產生高質量的表面。Plasmalab 100 Plus擁有集成的多頻發電機,頻率在15 MHz至40 MHz之間可調。這提供了在各種介質中蝕刻不同材料時的最大靈活性。隨蝕刻器/Asher提供的ICP電源可提供高達50瓦的功率,允許蝕刻比前面提到的典型材料更具抵抗力的材料。此外,該系統采用氣體流量控制器,氣體流量可調節,允許廣泛的蝕刻配方。OXFORD Plasmalab 100 Plus還配備了集成機器人手動舞臺,擁有218毫米x 406毫米的大型工作臺尺寸。此功能為蝕刻不同形狀和尺寸的材料提供了最大的靈活性。集成熱成像相機也可與舞臺配合使用,以測量蝕刻過程中材料的溫度。此外,該單元還附帶了一整套軟件工具,用於用戶定義的流程配方、數據收集和報告。Plasmalab 100 Plus配備了互鎖機和自動關閉計時器等多種安全功能,有助於保護操作員免受與蝕刻過程相關的高溫、電壓和壓力的影響。該工具包括接地室、保護面板以及氣體和真空安全關閉閥等其他幾個安全功能。總體而言,OXFORD Plasmalab 100 Plus 蝕刻器/Asher是一款卓越的設備,具有最大的靈活性和可靠的蝕刻性能。其優越的設計和堅固的元件使其成為先進材料加工、研發的絕佳選擇。
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