二手 OXFORD Plasmalab 133-ICP 380 #293779277 待售
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ID: 293779277
晶圓大小: 12"
優質的: 2010
Etcher, 12"
Maximum rated input current: 42 A
Interrupting current: 6 kA
RF Power: 600 W, 13.56 MHz
Water-cooled electrode: 10°C - 80°C
Endpoint detection: Verity optical emission spectroscopy (200-800 nm)
(7) Mass Flow Controllers (MFC):
Gas / Size
Ar / 100 SCCM
Cl2 / 100 SCCM
BCl3 / 100 SCCM
N2O / 200 SCCM
CHF3 / 200 SCCM
NH3 / 100 SCCM
CH4 / 50 SCCM
Power supply: 415 VAC, 3 Phase, 50 Hz
2010 vintage.
OXFORD Plasmalab 133-ICP 380是一種等離子體蝕刻/灰化設備,旨在為半導體和微電子工業制造先進材料提供高質量的結果。這種蝕刻器/灰化器是為與各種工藝氣體兼容而建造的,能夠產生高通量的生產和可重復的結果。OXFORD PLASMALAB 133 ICP380使用內置的高頻射頻發生器產生等離子體,以便蝕刻或灰化基材,由傳送帶支撐。這種等離子體通過高度電離的氣體,如矽烷或三氟化氮,將材料蝕刻或粉碎。與其他蝕刻和灰化方法相比,等離子體加工可實現更快速、更精確的生產過程,從而降低制造成本。PLASMALAB 133 ICP 380具有許多功能,使用戶能夠最大限度地提高結果的質量。它利用OXFORD Instruments增強的電子槍技術,提供更高水平的加工氣體電離,以提高蝕刻速率。它還具有附加的過程控制系統,該系統監視氣流、壓力、溫度和功率水平,以確保精確和一致的結果。該單元旨在使用戶能夠自定義流程參數以獲得特定應用程序最有效的結果。Plasmalab 133-ICP 380專為堅固可靠的操作而設計,設計用於各種工業環境。它配有耐用的不銹鋼腔室,使機器能夠在蝕刻和灰化過程中處理高溫。此外,OXFORD PLASMALAB 133 ICP 380設計方便維護,具有易於更換的部件和可檢測潛在問題的自我診斷工具。總之,PLASMALAB 133 ICP380是一種可靠、可靠的蝕刻/灰化設備,旨在為先進的半導體和微電子應用提供高質量的結果。它具有高吞吐量生產能力,可以根據各種要求進行定制,從而使用戶能夠最大限度地提高效率並最大限度地降低成本。
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