二手 OXFORD Plasmalab 133-ICP 380 #293797492 待售

OXFORD Plasmalab 133-ICP 380是一種等離子體蝕刻/灰燼設備，專門設計用於反應性離子蝕刻（RIE）、感應耦合等離子體（ICP）蝕刻和灰燼處理。這種通用的等離子體蝕刻/灰燼系統通過其先進的ICP發生器和氣體輸送裝置提供精確的過程控制。它能夠在半導體、MEMS、光電、數據存儲、LCD等多個行業中使用蝕刻和灰化技術。OXFORD PLASMALAB 133 ICP380包含一個標準的RPC-150遠程等離子體室（RPC）以實現對蝕刻和粉刷應用的精確過程控制。它配備了自動啟動和停止、射頻功率控制、自動氣流監測機等多種可定制的功能。該RPC-150配有一個17升電容耦合網室，通過將高頻射頻能量電感耦合到所需的過程，利用高效和均勻的氣體電離。這有助於確保處理結果與超低蝕刻/灰分速率一致。PLASMALAB 133 ICP 380還配備了強大的ICP氣體輸送工具。它提供了先進的功能,如具有多通道的氣體面板、集成的電氣安全互鎖以及3D氣流模擬。氣體輸送資產確保模型在最佳工藝條件下運行，提供卓越的工藝性能和工藝控制。OXFORD PLASMALAB 133 ICP 380控制器是一種基於圖形用戶界面（GUI）的完全可編程微處理器。這種先進的控制器可在所有工藝階段對設備進行精確控制。控制器支持多種系統參數，如腔室壓力、基板溫度、方石速率、蝕刻速率、功率、氣流和相位調制射頻發生器。該單元還支持為任何特定應用程序開發的自定義流程配方。PLASMALAB 133-ICP 380是一種可靠、堅固的等離子體蝕刻/灰分加工室機器.它能夠提供可重復和高質量的結果，無論蝕刻或灰化應用。該工具的定制工藝配方使其非常適合半導體、光電子、MEMS等領域的各種應用。Plasmalab 133-ICP 380是實現卓越工藝重復性和高性能結果精度的理想蝕刻和灰化資產。