二手 OXFORD Plasmalab 133 Plus #293651566 待售

OXFORD Plasmalab 133 Plus
ID: 293651566
晶圓大小: 4"
Reactive Ion Etcher (RIE), 4".
OXFORD Plasmalab 133 Plus是一款先進的等離子體蝕刻器或灰化器,目的是對包括矽、聚酰亞胺、聚合物電介質和合金在內的多種材料進行高純度、低損傷的蝕刻和灰化工藝。這一設備配備了超高純度等離子體源,能夠產生廣泛的化學反應自由基、分子和去離子以及電子,允許對各類材料進行高精度蝕刻或灰化。其廣泛的加工氣體提供了摻雜或未摻雜聚合物和矽材料的蝕刻和粉刷操作。該系統具有高精度和可靠的功率應用於晶片,是高容量精密晶片加工的理想選擇。Plasmalab 133 Plus的設計采用了快速更改選項,允許用戶在幾分鐘內在蝕刻、asher和獨立的等離子體清潔器之間切換。其內置的自動壓力控制和快速循環時間縮短了處理時間,保持了最高質量水平。OXFORD Plasmalab 133 Plus包括一個基於網絡的流程監控和報告單元。這臺機器提供了一個用戶友好的界面,並提供了數據記錄和流程配方,可幫助優化和加快蝕刻或灰分流程,同時還提供流程可追蹤性和對性能數據的訪問。Plasmalab 133 Plus也被設計為自給自足,容易融入現有生產線。其高度可重復的工藝和一致的結果使其成為廣泛應用的理想選擇,包括半導體加工、電路板和封裝以及微流體器件。這使得它成為蝕刻和灰化過程的經濟高效的解決方案。此外,OXFORD Plasmalab 133 Plus擁有一個易於使用的控制站,這使得新工藝的使用和設置變得簡單。對於需要使用各種加工氣體的用戶,Plasimalb 133 Plus有一個可選的六室燃氣櫃,可以快速、輕松地交換加工氣體。這種蝕刻器是半導體和其他微電子材料的清潔、低損傷處理的完美解決方案。該工具的高級設計和基於Web的綜合性能監控資產使其既經濟高效又可靠,使用戶能夠獲得最高質量的蝕刻和灰分結果。
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