二手 OXFORD Plasmalab 133 #293651582 待售

OXFORD Plasmalab 133
ID: 293651582
晶圓大小: 4"
Reactive Ion Etcher (RIE), 4".
OXFORD Plasmalab 133是一種精密的蝕刻和灰化設備,用於高精度生產表面樣品。其獨特的設計允許對各種材料進行精密的灰化和蝕刻,從金屬和合金到甚至有機基板。Plasmalab 133非常適合在蝕刻和灰化過程中要求高選擇性的過程,在這些過程中,高精度和精確的過程控制至關重要。它是一種自動化的等離子體蝕刻器和灰化器,可以編程為處理幾乎任何厚度的材料樣品。該設備采用脈沖射頻(RF,射頻)等離子體源,有可能整合氧氣、氮氣和其他氣體。它的電源允許調整射頻頻率,以便對材料表面進行有針對性的蝕刻和灰化,以滿足特定的要求。OXFORD Plasmalab 133還具有收集和監測蝕刻和灰化過程產生的氣體的綜合系統。這樣就可以精確控制和監測過程,這對於質量保證和數據分析很重要。Plasmalab 133是為用戶和環境的安全而設計的。使用1類安全膜時,任何接觸有害氣體或顆粒的情況都會最小化。此外,OXFORD Plasmalab 133可以獨立或串聯配置操作。在串聯配置的情況下,可以將設備連接到其他設備和系統,從而可以執行更復雜的進程。Plasmalab 133的光學元件呈現出一組獨特的特性,可以精確控制蝕刻和灰化過程。它具有對焦、照明和標線的可調性,可以提供卓越的公差控制,這是半導體制造等過程中的關鍵。其先進的光學系統還允許測量蝕刻深度,從而能夠對工藝進行精確控制。整體而言,OXFORD Plasmalab 133是一款出色的蝕刻和灰化機,設計精密和精確的過程控制。它的高功率射頻源、可定制的光學系統和用戶友好的軟件使其成為各種材料和工藝的理想選擇,從金屬和合金到有機基板。該工具還具有1類安全膜,可防止危險暴露,使其成為尋求自動可靠蝕刻和灰化解決方案的用戶的理想選擇。
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