二手 OXFORD Plasmalab 133 #293824951 待售

ID: 293824951
優質的: 2013
Reactive Ion Etcher (RIE) Gas holder Control system Chiller Wafer sizes: 2″/3″/4″/5″/6″/8″/12″ Plasma source: 13.56 RF 0-600W Process gases: 7-channel MFC gas Gas lines: Cl2 - 100 sccm BCl3 - 100 sccm CH4 - 50 sccm Ar - 100sccm NH3 - 100 sccm CHF 3 - 200sccm N₂O - 200 sccm 2013 vintage.
OXFORD Plasmalab 133是一款先進的蝕刻和灰化設備,旨在提供卓越的電子元件表面制備和加工。該系統具有強大的雙頻射頻電源,能夠提供一系列低於大氣壓的處理。這樣就可以創建高反應性的環境,非常適合原子混合、修補和蝕刻曲面。Plasmalab 133包含一系列先進功能,包括集成氣體歧管、氣流控制和可調壓力監測。該單元還包括高精度石英晶體監視器,以及一系列功能強大的診斷工具。高精度的石英晶體監視器可確保準確性,使用戶能夠校準和調整蝕刻和灰化過程,以獲得最佳性能。蝕刻過程在真空室的工件底面進行。腔室底部用加熱元件加熱到所需溫度,受控環境使得能夠進行精確的蝕刻過程。控制過程的機制是基於直流、交流和脈沖功率的組合,以及電壓、電流和壓力等各種其他參數。OXFORD Plasmalab 133通過在室內創造高反應性環境,能夠產生極好的效果,汙染最小。蝕刻過程由計算機化機器監控,確保精確度和精確度。集成氣體歧管允許用戶根據應用選擇合適的氣體混合物。Plasmalab 133包含了一系列保護使用者的安全功能,例如主動屏障屏蔽、RF和壓力保護以及防護磨損。該工具還配備了緊急通風資產,以保護用戶免受潛在汙染。該模型具有簡單的用戶界面,便於操作,提供直觀的控件和一系列圖形顯示,便於查看。最後,OXFORD Plasmalab 133是一種先進的蝕刻和灰化設備,旨在提供卓越的電子元件表面制備和加工。該系統配備了強大的雙頻射頻電源、集成氣體歧管、高精度石英晶體監視器以及一系列增強防護的安全功能。簡單的用戶界面和直觀的控件,加上一系列的高級功能和性能,使得Plasmalab 133成為任何應用程序的理想選擇。
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