二手 OXFORD Plasmalab 133 #293824959 待售

OXFORD Plasmalab 133是一種先進的蝕刻/灰化設備，用於對納米級的材料進行精確的控制和操作。該系統用於創建具有嚴格規格的高度精確的組件，特別是用於微電子和納米技術應用。Plasmalab 133配備了ECR（電子回旋共振）源，用於為蝕刻和灰化過程創造等離子體環境。該單元包含一個RF（射頻）發生器、一個源等離子體腔和一個噴嘴組件來聚焦等離子體。ECR源的頻率範圍高達500 MHz，可以在廣泛的工作頻率範圍內產生4 kW的最大功率。這個源也有一個可調的電離能，使得廣泛的蝕刻和灰化過程。OXFORD Plasmalab 133的源室由不銹鋼構成，允許在蝕刻和灰化過程中最多使用8個樣品持有者。它還包含一個真空自動壓力控制機，允許用戶精確調節等離子環境的壓力。該室還有一些規定，以便快速安裝或清除加工氣體，並保持背景壓力。Plasmalab 133具有許多先進的功能,能夠在納米級對材料進行精確的操作,包括對材料進行高分辨率掃描和定位,以及高範圍的蝕刻和灰化參數。此外，該工具還具有安全功能，包括溫度監測、緊急停止和氣體供應關閉閥。OXFORD Plasmalab 133是一種高度先進的蝕刻/灰化資產，適合生產精密元件。其功能強大且用途廣泛的設計使其成為一系列納米級操作的理想選擇,其安全特性確保了該過程的精確度和謹慎。